Occasion ASML TWINSCAN XT 1700FI #293603594 à vendre en France

ASML TWINSCAN XT 1700FI est un équipement de photolithographie utilisé dans la fabrication de circuits intégrés. Le système est utilisé pour exposer des motifs sur une plaquette semi-conductrice. Il utilise une source de lumière laser KrF de 193 nanomètres pour exposer les motifs sur la plaquette et les semi-conducteurs. L'unité est basée sur une plate-forme pas à pas en plaquettes, qui se compose d'une chambre d'exposition, d'une tête d'exposition et d'une piste. La tête d'exposition comprend un illuminateur laser, une optique de projection et un scanner. L'illuminateur laser émet un faisceau lumineux étroit qui est focalisé avec l'optique de projection sur la plaquette. Le scanner déplace alors la plaquette horizontalement à travers le faisceau laser et le motif est exposé sur la plaquette. ASML TWINSCAN XT:1700FI est l'un des scanners les plus performants disponibles dans l'industrie, capable de délivrer des vitesses d'exposition allant jusqu'à 340 mm/s. Il offre une précision de niveau nanométrique, avec une résolution de 0,06micron et une uniformité accrue sur le champ d'exposition. La tête d'exposition dispose de 16 options de grossissement et d'une machine d'ouverture programmable qui permet aux clients d'obtenir des débits plus élevés et des films plus uniformes que précédemment possible. Son refroidissement avancé, sa faible empreinte et son champ électrique statique réglable contribuent à la performance exceptionnelle d'exposition de l'outil. En plus du scanner, TWINSCAN XT 1700FI offre diverses autres fonctionnalités qui améliorent l'expérience utilisateur et réduisent le coût de possession. Son actif intégré de manutention des plaquettes permet une manutention automatisée des plaquettes, réduisant ainsi le travail des opérateurs. Son modèle intégré de chargement/déchargement élimine la nécessité d'une station de chargement séparée, éliminant les coûts et l'espace requis. Plusieurs options de maintenance peuvent être programmées dans l'équipement pour l'entretien régulier, réduisant les temps d'arrêt et les coûts opérationnels. Le système est adapté à tout type d'appareil, des circuits numériques aux circuits analogiques, et des dispositifs SRAM aux dispositifs DRAM. Il est également assez robuste pour manipuler différents matériaux de plaquettes. En outre, il est compatible avec la dernière version du logiciel ASML propriétaire de lithographie Euv ASML, qui garantit les meilleurs résultats possibles. TWINSCAN XT:1700FI est une unité de photolithographie remarquablement polyvalente et fiable qui permet aux utilisateurs de produire des produits de haute qualité de manière rentable. Son débit élevé et sa précision peuvent profiter à tout procédé de fabrication, ce qui en fait un choix idéal pour toute installation de fabrication de semi-conducteurs.