Occasion ASML Twinscan XT 400L #293817839 à vendre en France

ASML Twinscan XT 400L
ID: 293817839
i-Line stepper Numerical Aperture (NA): 0.48-0.65 Resolution: ≤350/280/220 nm DCO:  12 MMO: 20 Throughput (WPH): 230-250.
ASML Twinscan XT 400L est une machine de pointe utilisée dans l'industrie des semi-conducteurs pour les procédés avancés de lithographie. Cette technologie joue un rôle critique dans la réalisation de circuits intégrés en permettant le brassage à haute résolution de plaquettes semi-conductrices. Le XT 400L offre des avancées significatives en matière de performance, de précision et de productivité, ce qui en fait un choix privilégié pour les principaux fabricants de semi-conducteurs du monde entier. La caractéristique clé de Twinscan XT 400L est son système de lithographie optique de pointe, qui exploite la technologie de pointe pour obtenir une résolution de sous-microns sur les plaquettes semi-conductrices. Cette capacité de haute résolution est essentielle pour créer des motifs et des structures complexes sur la surface de la plaquette, assurant le transfert précis des conceptions de circuits sur le substrat de silicium. Le XT 400L intègre un système de lentilles sophistiqué, des illuminateurs et des mécanismes d'alignement pour permettre des processus de calcul précis avec un minimum de défauts et d'erreurs. L'une des caractéristiques majeures de la XT 400L est sa conception à deux étages, qui comprend deux étages distincts pour l'alignement et l'exposition des plaquettes. Cette configuration à deux étages permet un fonctionnement continu, où une étape peut être utilisée pour l'alignement et la préparation, tandis que l'autre est utilisée pour l'exposition et la fixation. Cela réduit considérablement les temps de cycle et améliore le débit global, faisant du XT 400L une solution de lithographie hautement efficace et productive. En termes de performance, l'ASML Twinscan XT 400L dispose de spécifications impressionnantes qui le distinguent des marches traditionnelles. La machine est capable d'atteindre une résolution inférieure à 10 nm, permettant la production de dispositifs semi-conducteurs de pointe avec des fonctionnalités et des fonctionnalités avancées. Le XT 400L offre également des débits élevés, soutenant le traitement rapide des wafers pour répondre aux exigences des environnements de production à haut volume. De plus, le XT 400L intègre des technologies d'imagerie avancées, telles que les masques à déphasage et l'éclairage adaptatif, afin d'améliorer la fidélité des motifs et la qualité de l'image pendant l'exposition. Ces améliorations d'imagerie permettent au XT 400L d'obtenir une précision de transfert de motifs supérieure, essentielle pour garantir la fonctionnalité et les performances des dispositifs semi-conducteurs. En outre, la machine dispose de capacités d'automatisation avancées, y compris des systèmes de surveillance et de contrôle en temps réel, pour rationaliser le fonctionnement et réduire l'intervention humaine, ce qui améliore la stabilité et la fiabilité du processus. Un autre aspect notable de Twinscan XT 400L est sa polyvalence et son évolutivité, permettant une large gamme d'applications de lithographie dans diverses technologies de semi-conducteurs. La machine supporte de multiples techniques de balisage, telles que la lithographie par immersion et la lithographie ultraviolette extrême (EUV), permettant aux fabricants de répondre à diverses exigences de balisage pour les noeuds semi-conducteurs avancés. Le XT 400L est également conçu pour accueillir les futurs nœuds technologiques, avec des chemins de mise à niveau et des composants modulaires qui peuvent être facilement configurés pour répondre à l'évolution des normes et des exigences de l'industrie. Dans l'ensemble, l'ASML Twinscan XT 400L représente une solution de pointe qui combine une technologie de pointe, des performances élevées et des capacités avancées pour stimuler l'innovation dans la fabrication de semi-conducteurs. Avec sa résolution, sa productivité et sa polyvalence exceptionnelles, le XT 400L est un choix privilégié pour les grandes marques de semi-conducteurs qui cherchent à repousser les limites de la lithographie et à livrer sur le marché des appareils semi-conducteurs de nouvelle génération.
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