Occasion ASML Twinscan XT 850F #9211428 à vendre en France

ASML Twinscan XT 850F est un pas de tranche de précision conçu pour résister aux conditions extrêmes du processus. Il s'agit d'un pas de plaquette haute résolution utilisé pour des applications avancées de lithographie semi-conductrice. Le XT 850F est capable de produire des fonctionnalités jusqu'à 28nm résolution de pas dense avec son équipement d'imagerie haute fidélité. L'optique du système utilise une technologie ACIS de pointe pour obtenir la meilleure précision de positionnement de bord de motif. Twinscan XT 850F utilise une plate-forme FOUP (Front Opening Unified Pod) robuste avec des tests automatisés d'acceptation des lots pour garantir l'uniformité des processus et le contrôle des défauts. Il dispose également d'une unité d'inspection avancée et de systèmes de manutention automatique des plaquettes, offrant des temps de chargement et de déchargement rapides avec une intervention minimale de l'utilisateur. Le stepper utilise des technologies de contrôle de processus très avancées qui permettent des processus de lithographie robustes et fiables. Le stepper wafer est conçu pour augmenter la complexité de l'appareil avec sa combinaison d'analyse de données et de fidélité de plusieurs couches de fixation permettant une rétroaction in situ rapide. Le jeu de fonctionnalités robuste du XT 850F est conçu pour maximiser le débit pour n'importe quel environnement de débit. Le XT 850F est conçu avec une suite de fonctionnalités interactives de prise en charge à distance permettant aux utilisateurs de bénéficier du personnel de prise en charge à distance lors de l'ajustement de ses paramètres. Cette fonctionnalité est conçue pour réduire le temps nécessaire pour résoudre les problèmes techniques et garantir un débit optimal en permettant aux utilisateurs d'adapter rapidement les réglages de la machine aux conditions changeantes du processus. L'ASML Twinscan XT 850F est un pas de plaquette polyvalent doté de technologies robustes de contrôle des processus, allié à sa haute précision, son haut débit et ses capacités de prise en charge à distance, ce qui en fait un outil idéal pour la lithographie pour la fabrication avancée de dispositifs semi-conducteurs.