Occasion ASML Twinscan XT 860N #293817840 à vendre en France

ASML Twinscan XT 860N
ID: 293817840
Lithography system Numerical Aperture (NA): 0.55-0.8 DCO:  ≤7.5 Resolution: 110 nm Throughput (WPH): 260.
L'ASML Twinscan XT 860N est un marchand de plaquettes de pointe réputé dans l'industrie des semi-conducteurs pour ses performances exceptionnelles et sa technologie de pointe. En tant que système de lithographie phare d'ASML, Twinscan XT 860N est conçu pour répondre aux exigences exigeantes des procédés de fabrication de semi-conducteurs de pointe. Cet équipement ultramoderne allie une optique de précision, des capacités d'imagerie sophistiquées et des fonctionnalités d'automatisation avancées pour fournir des motifs haute résolution sur des plaquettes de silicium. L'ASML Twinscan XT 860N est équipé d'un système de lentille sophistiqué qui peut réaliser une lithographie ultra haute résolution, permettant la production de dispositifs semi-conducteurs avancés avec des tailles de fonctionnalités dans la gamme de sous-nanomètres. L'unité utilise une source de lumière ultraviolette profonde (DUV) avec de multiples options de longueurs d'onde, telles que 193 nm et 248 nm, pour permettre la fixation précise de structures complexes sur la surface de la plaquette. Cela permet aux fabricants de semi-conducteurs d'obtenir des règles de conception plus strictes et des densités de dispositifs plus élevées, conduisant à des performances et des fonctionnalités accrues dans les circuits intégrés. Une des caractéristiques clés de Twinscan XT 860N est sa machine d'alignement à deux étages, qui assure un contrôle précis de la superposition pendant le processus de lithographie. Cet outil utilise des capteurs et des actionneurs avancés pour contrôler et ajuster en temps réel l'alignement des étages de plaquettes et de réticules, ce qui permet une précision de niveau micron dans la fixation des plaquettes. L'actif comprend également des algorithmes de correction avancés et des mécanismes de rétroaction pour compenser toute variation ou perturbation de processus, assurant un rendement élevé et des performances optimales dans la fabrication de semi-conducteurs. L'ASML Twinscan XT 860N est équipé d'un étage réticulé à grande vitesse qui permet une exposition rapide et efficace de toute la surface de la plaquette. Le modèle dispose d'un mode à haut débit qui permet d'atteindre des vitesses d'exposition de pointe dans l'industrie, permettant aux fabricants de semi-conducteurs d'augmenter leur productivité globale et de réduire les temps de cycle dans le traitement des plaquettes. L'équipement comprend également des capacités de manutention et d'échange automatique des réticules, minimisant l'intervention de l'opérateur et réduisant le risque de contamination pendant le processus de lithographie. En plus de ses capacités d'imagerie et d'alignement avancées, Twinscan XT 860N intègre une gamme de technologies innovantes pour améliorer les performances et la fiabilité dans la fabrication de semi-conducteurs. Le système dispose d'une conception sophistiquée de mandrin de plaquette qui optimise la stabilité thermique et mécanique, assurant une planéité cohérente de la plaquette et une focalisation uniforme sur l'ensemble du champ d'exposition. L'unité comprend également des fonctions avancées de contrôle des processus, comme la détection et la surveillance des bords des plaquettes, afin d'assurer une exposition uniforme et une précision d'alignement sur toutes les zones de la plaquette. Dans l'ensemble, l'ASML Twinscan XT 860N est un pas de plaquette de pointe qui offre une précision, une vitesse et une fiabilité inégalées dans la lithographie des semi-conducteurs. Grâce à son optique avancée, à sa machine d'alignement et à ses fonctions d'automatisation, l'outil permet aux fabricants de semi-conducteurs de produire des appareils de pointe avec des performances et des fonctionnalités exceptionnelles. Twinscan XT 860N représente un progrès significatif dans la technologie de lithographie des semi-conducteurs et est un outil essentiel pour stimuler l'innovation et la compétitivité dans l'industrie des semi-conducteurs.
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