Occasion ASML XT 1250 #9191912 à vendre en France
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Vendu
ID: 9191912
Taille de la plaquette: 8"
Stepper, 8"
Wafer type: Notch
Laser model: GIGAPHOTON GT42A4 (20W)
Laser type: GIGAPHOTON Laser
FAT Attendance
OIU / Reticle wafer aux port: Left configuration
CSR's for XT1250B various: CSR 7603
FOUP Machine door sensor: No
PPD IRIS (CSR): No
CSR (AT Multilingual UI): No
Pellicle safeguard (CSR): No
CSR (LS M2M P2P): No
Active contrast control: No
Quasar: No
WH Carrier interface: (25) Wafers open cassette kit
Wafer track interface: SOKUDO RF3/200
Mark sensor
Integrated reticle library: No
IRIS-6 Inch reticles twinscan: No
DOE ID12 Low sigma
DOE MP2 35-X: No
DOE MP2 35-Y: No
DOE ID5 MP4 30-45: No
DOE ID2 MP4 20-45: No
Reticle CIDRW (Tag reader): No
FOUP Lockout system: No
DOE ID6 High sigma
Chuck dependent correction (CSR): No
Image streaming: Standard
Second laser paddle: No
CD-FEC: Standard
Lithoguide ILIAS: Standard
Wafer ID reader: No
MDL View: Site view
Athena narrow marks: Standard
Reticle barcode reader
Focus spot monitor: Standard
Reorder lot service: No
UNIVERSAL Prealignment: No
Recipe creator
Quasar XL: Standard
Automated reticle transport: No
Lot overhead reduction: LOR-2 / Standard
Machine specification for SWkey: B
Quasar XL: Standard
Dose mapper: Standard
Top package: Standard on XT:1400 (Top 2)
PEP for AT 1200B: No PEP package
DOE ID28 MP5 Soft quasar: No
DOE ID18 MP2 40-Y: No
DOE ID19 MP2 40-X: No
DOE ID31 MP4 40-45: No
DOE ID14 MP4 60-45: No
DOE ID21 MP4 45: No
EFESE: No
CSR L1L7 Type_1: No
ASF LS area extension: No
DOE ID9 MP4 20: No
IRIS Feature scan: No
Reticle shape correction
Twinscan wafer switch
DOE ID8 MP2 90-X: No
DOE ID7 MP2 90-Y: No
DOE ID13 MP4 30: No
PupMeas with ILIAS: No
CSR Proximity matching: No
ExpoSure: No
NA Extension / Diaphragm limiter: No
DOE ID29 MP2 60-X: No
DOE ID30 MP2 60-Y: No
Chemical sampling ports: No
ASF (LS Spot Coverage): No
System perf indicators focus: No
Equipment constants: No
BAM (Bandwidth analysis module): No
DOE ID20 Ultra low sigma: No
2D Barcode reader: No
ASF (E-chuck Flatness Qualification): No
Wait watcher: No
Reticle streaming: No
Best uniformity settings (BUSS): No
Grid mapper
Chuck dedication: No
Spot less: No
Module name Last value Status Unit Limit
Total shot 15825.9 - Mpulse -
Chamber 4344.8 36% Mpulse 12000
L/N Module 4345.9 31% Mpulse 14000
Fronut mirror 2260.7 16% Mpulse 14000
Monitor module 7443.7 74% Mpulse 10000
HG Lamp 6113 3% Cycle 200000
F2 Trap (C) 96.62 97% Cycle 100
F2 Trap (T) 5789.8 33% Hour 17520
Excimer shutter 356890 12% Cycle 3000000
Power: 400 V.
ASML XT 1250 est un pas de plaquette utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour la photolithographie. ASML XT1250 dispose d'un certain nombre de technologies de pointe conçues pour fabriquer des motifs extrêmement précis à la surface des plaquettes circulaires. La XT 1250 utilise des « optiques à double champ », ce qui permet un alignement extrêmement précis entre masques et plaquettes pendant le processus d'impression. Cette technologie fournit des fonctionnalités avec une résolution sous-micron sur les plaquettes. Il dispose également d'un interféromètre multi-canaux unique qui fournit des mesures extrêmement précises des distances linéaires. XT1250 est alimenté par une apexengine, la plate-forme multi-CPU la plus rapide au monde. Cela permet d'imprimer rapidement et en haute résolution de grandes plaquettes. Il peut également être configuré pour traiter différentes applications, des plaquettes plus petites aux appareils plus grands. L'apexengine permet des cycles de production plus rapides, un débit plus élevé et une meilleure uniformité. L'ASML XT 1250 dispose d'un système de compensation de focalisation dynamique (DFCS), qui aide à maintenir la précision de focalisation pendant le processus d'impression. La technologie DFCS réduit le besoin de recentrage manuel et garantit une impression stable des motifs. Le logiciel Specifier/Revealer de la machine permet un tissage sur mesure sur plaquettes. Ce logiciel peut ajuster les positions de terrain pour créer des modèles équilibrés et précis et peut également aider à préserver les données sans perdre de résolution. ASML XT1250 dispose également d'une solution ProFlux qui assure un flux optimal à la surface de la plaquette. Cette approche innovante augmente le taux de gravure de la plaquette sans compromettre la qualité des motifs. En outre, la configuration ProFlux peut prendre en charge plusieurs plaquettes par travail, ce qui permet aux fabricants de gagner du temps et de l'argent. XT 1250 est un pas de plaquette avancé, offrant aux fabricants des solutions avancées et des performances puissantes. Il offre une précision, une précision et une fiabilité inégalées pour l'impression de minuscules caractéristiques sur plaquettes. Le débit élevé de la machine, combiné à ses solutions logicielles avancées, font de XT1250 une solution idéale pour les fabricants de semi-conducteurs cherchant à réduire les temps de conception tout en améliorant les rendements et le débit.
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