Occasion ASML XT 1250B #9383217 à vendre en France

ASML XT 1250B est un pas de plaquette conçu pour la lithographie dans l'industrie des semi-conducteurs. Il fournit un transfert de motif efficace sur les plaquettes semi-conductrices, avec des performances de dispositif améliorées et une productivité accrue. Ce pas de plaquette utilise diverses technologies de lentille pour focaliser avec précision le faisceau d'imagerie sur la surface de la plaquette, ce qui permet de placer et de répliquer avec précision les motifs. La plate-forme ASML XT:1250B peut utiliser des technologies de lentilles avancées telles que EUV/DUV et de multiples champs d'exposition. Il s'agit d'un pas à double étage de plaquette qui utilise un système breveté à double niveau de vide pour accueillir différentes tailles de substrat pour la production de dispositifs flexibles. Il est construit avec un design modulaire, ce qui lui permet d'être rapidement configuré et reconfiguré pour une production à haut volume. De plus, XT 1250B utilise un système optique de projection à haute résolution de sous-microns, lui permettant de produire des motifs avec des largeurs de raies comprises entre 0,2 et 1,2 µm. Ce pas de plaquette est équipé d'un système de chargement sous vide/différentiel et d'un autofocus de caméra qui combine l'objectif d'imagerie et l'objectif de caméra dans une configuration unique pour un alignement de haute précision. Il est conçu pour réduire la production de particules et améliorer l'équilibre de l'imagerie sans contamination entre les étages. XT:1250B dispose également d'un contrôleur pas à pas et d'un conducteur de moteur à faible bruit, offrant un cadencement fiable pour un positionnement précis des substrats. ASML XT 1250B est également capable d'exécuter un alignement intensif de superposition de motifs, en utilisant un logiciel de traitement d'image pour la comparaison d'images et le contrôle de mesure. Cette machine est conçue pour réduire les écarts de placement en utilisant une analyse d'image avancée. En résumé, ASML XT:1250B est un puissant pas de plaquette conçu pour la lithographie. Sa conception en deux étapes, sa technologie avancée d'optique d'imagerie et ses systèmes de capteurs optimisés lui permettent de produire des motifs précis avec une contamination minimale et une précision de détection améliorée. Le traitement très efficace de cette machine est idéal à la fois pour la production de volume élevé et la fabrication de dispositifs précis.