Occasion ASML XT 1250D #9391534 à vendre en France

L'amplificateur ASML XT 1250D est un équipement de lithographie ultra haute performance conçu pour accélérer le processus de fabrication de la microélectronique. Il utilise un système de projection laser de longueur d'onde courte, 248 nm KrF et est capable de produire des images imprimées avec des résolutions aussi fines que 0,13 microns. La machine combine les performances d'imagerie d'un scanner à pleine charge avec la vitesse d'un microscope à force atomique de dimension critique. La machine est conçue pour faciliter la production de motifs de circuits sur circuits intégrés, MEMS et composants optoélectroniques avec résolution de précision jusqu'à 0,13 microns tout en maintenant une fiabilité et un débit constants. Il est équipé d'un étage de plaquettes robotisées à 5 axes et d'un étage de masque réticulaire en silicium bidimensionnel. L'étage de masque peut se déplacer en deux axes à une vitesse de 15,2 mm/s, et l'étage de plaquette peut se déplacer en cinq axes à une vitesse de 11,2 mm/s. Le wafer stepper dispose également d'une salle blanche embarquée avec contrôle de la température, systèmes de filtration de l'air et systèmes d'azote actif. La machine optique de la machine comprend une source laser optique, une caméra optique à condenseur et une lentille formant image. De plus, la capacité de couture intra-champ de la machine lui permet d'adopter pour former des motifs sur différents substrats. Pas de plaquette XT 1250D est livré avec des fonctions avancées de stabilisation et d'alignement qui assurent la répétabilité et la précision de l'alignement pendant le balayage et l'exposition des plaquettes. Il dispose également d'un capteur de résolution de nanomètre amélioré qui peut mesurer les hauteurs de pas, ainsi que des caractéristiques d'alignement et de dimension critique. En outre, le stepper dispose d'un outil de mesure de haute précision qui lui permet d'accueillir des lignes et des contacts métalliques à haut rapport d'aspect. ASML XT 1250D wafer stepper est un outil de lithographie puissant et efficace qui peut être utilisé pour diverses exigences des circuits intégrés, MEMS et composants optoélectroniques. Il offre des performances d'imagerie supérieures, un environnement de salle blanche et un débit fiable pour la production de circuits en grand volume sur plaquettes. Cette machine est idéale pour les industries et les organisations de R&D dans les industries du semi-conducteur, du MEMS et de l'optoélectronique.