Occasion ASML XT 1400E #293825230 à vendre en France

ASML XT 1400E est un pas de plaquette avancé conçu pour les applications de photolithographie. Il s'agit d'un pas de plaquette de niveau de vide et fonctionne sur une plate-forme modulaire unique pour l'exposition de haute précision des rayons X doux et des masques de faisceau d'électrons. Cet équipement hautement adaptatif est capable de s'adapter à différents types de substrats et de réduire les exigences de processus grâce à un alignement supérieur et une répétabilité des processus. XT 1400E dispose d'un système spécial de masquage aux rayons X qui permet le mouvement latéral du mandrin du masque, en plus de la rotation et de l'inclinaison. Ceci permet un alignement optimal du masque au sein de l'unité. De plus, la machine offre une large gamme d'accélération et de décélération selon les axes X et Y, permettant un déplacement rapide et précis du masque. Le stepper dispose également de l'alignement automatique et de la commande de focalisation, haute résolution de position, et l'alignement précis des points. Le pas utilise une conception de mouvement électromagnétique à 6 axes pilotée par un outil de commande de mouvement haute performance. Il dispose d'un canon à électrons à émission de champ diélectrique et d'une fonctionnalité précise de contrôle ponctuel pour un alignement rapide et précis des masques. Il est également équipé d'un outil de guidage visuel avancé qui peut détecter et détecter les changements dans la forme des masques et des substrats. ASML XT 1400E wafer stepper est disponible dans les configurations de référence et de production, qui sont conçus pour une production à faible ou à haut volume. Le modèle offre également une variété d'optiques et de logiciels, qui peuvent être personnalisés en fonction des besoins spécifiques de l'application. En raison des progrès de l'équipement, XT 1400E est devenu l'étape de choix pour de nombreuses applications de photolithographie. Il améliore la précision et la répétabilité pour augmenter le taux d'utilisation du masque, augmenter le débit et réduire le temps de cycle de production. En tant que tel, il est le meilleur choix pour les applications où une précision accrue et une haute résolution sont requises.