Occasion ASML XT 1400E #9289672 à vendre en France
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ID: 9289672
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2005
Lithography system, 12"
SMIF / FOUP
ARF Scanner
Projection lens:
RMS Z5-Z37 : 3.16 nm
RMS Spherical: 1.62 nm
RMS Coma: 1.69 nm
RMS Astigmatism: 0.48 nm
RMS 3-Foil: 0.46 nm
Straylight at ref blocksize: 0.62%
Illumination:
Integrated slit uniformity setting: 0.44%
Illumination intensity setting: 1748 mW/cm2
Dose repeatibility: 0.199
Dose accuracy setting: 2.896
Pupil verification
Ellipticity setting: 1.879 mean
Focus and leveling:
Leveling verification:
Chuck to chuck focus difference: 5 nm
2005 vintage.
ASML XT 1400E est un pas de plaquette haut de gamme réalisé par ASML, un leader dans le domaine de la lithographie à semi-conducteurs. XT 1400E est une machine de pointe qui fournit une micro-lithographie précise pour la fabrication de microélectroniques. La machine dispose d'un certain nombre de fonctionnalités avancées qui la rendent idéale pour des tâches de fabrication de haute précision, telles que l'exposition de photorésistance pour créer des couches conductrices sur des plaquettes, des motifs de circuit, et d'autres composants. ASML XT 1400E est conçu pour fonctionner comme un système de lithographie optique en une seule étape, utilisant une combinaison de source de lumière, lentilles, séparateurs de faisceau, et un obturateur d'obturation pour créer un motif à partir d'une photomasque ou réticule sur une plaquette ou un substrat d'essai. La machine est équipée d'une gamme de sources lumineuses, y compris les lasers excimères KrF et ArF, qui peuvent être utilisés pour créer des images de résolution de sous-microns. Le stepper peut également être utilisé en combinaison avec un système de tomographie de cohérence optique, permettant à l'utilisateur de contrôler optiquement des caractéristiques trop petites pour un microscope. XT 1400E est également équipé d'un outil d'alignement et de réglage de faisceau de précision sensible (SPAT), permettant à la machine de focaliser avec précision et de déplacer la tête de pas à travers la plaquette. Le SPAT utilise des systèmes d'interférométrie laser et de rétroaction pour fournir la position exacte de la caractéristique exposée, ainsi que d'autres paramètres tels que la largeur de ligne. Cela permet à la machine de produire des caractéristiques avec des tolérances inférieures à 1nm. ASML XT 1400E est également équipé de capacités d'exploitation automatisée par ordinateur (CAM), permettant aux utilisateurs d'enregistrer et d'exécuter des paramètres d'exploitation à partir d'une base de données. La machine est également compatible avec une gamme de photomasques tels que le quartz, le polycarbonate et les masques métalliques. En outre, les utilisateurs peuvent choisir parmi une variété de formats d'image, y compris la suite Pro-Lithogen, permettant aux utilisateurs de traiter une grande variété de tâches. XT 1400E est conçu pour être rapide et efficace, avec un temps d'exposition pouvant atteindre 20 secondes. La machine est conçue avec souplesse et est compatible avec une gamme de masques prédéfinis, de systèmes optiques et de têtes de pas, ce qui la rend adaptée à une gamme d'applications. En conclusion, ASML XT 1400E est un pas de tranche haut de gamme qui fournit une micro-lithographie précise et efficace pour la fabrication de microélectroniques. C'est une machine de pointe qui offre une gamme de fonctionnalités, y compris des résolutions de sous-microns, un fonctionnement automatisé, et une gamme de masques et de formats d'image.
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