Occasion ASML XT 1400E #9383074 à vendre en France

ASML XT 1400E est un pas de plaquette productif et fiable de l'ASML. C'est une plate-forme de lithographie modulaire conçue avec à la fois la productivité et la performance en tête. Il est particulièrement adapté aux applications difficiles de production à haut volume telles que l'emballage 3D et la mise à l'échelle des dispositifs pour la lithographie avancée des noeuds. XT 1400E wafer stepper est basé sur une haute puissance avancée, eXtended Source (X-Source) qui produit un éclairage parallèle, multi-longueur d'onde, fournissant une profondeur de mise au point accrue et une précision de placement de motif améliorée. En outre, il est équipé d'un équipement de préalignement 4 niveaux de pointe qui assure une précision répétable et excellente sur plusieurs expositions. ASML XT 1400E dispose également d'optiques ASML hyper-NA, qui permettent une imagerie haute résolution jusqu'à la limite de 193nm de longueur d'onde et de plus petites longueurs de linéarité. Cela garantit un rendement élevé et la qualité de la lithographie pour les technologies de pointe des nœuds. En outre, la plate-forme est équipée d'un groupement Zoom Lens qui offre une meilleure cohérence des bandes passantes. XT 1400E offre également une stabilité temp supérieure et une capacité de contrôle de l'uniformité CD. Ceci est accompli par le système de contrôle thermique intégré. Cela protège étroitement les paramètres d'imagerie de l'appareil, même si la température de la machine varie, assurant des performances lithographiques toujours élevées. D'autres fonctionnalités d'ASML XT 1400E incluent le logiciel intégré Advanced Pattern Development (APD) qui regroupe toutes les fonctions essentielles de contrôle de la lithographie en une seule plate-forme. Cela rend la préparation des données de modèle sans effort et élimine de nombreux processus de temps généralement associés à la production avancée de noeuds. XT 1400E est un pas de plaquette très avancé qui peut garantir des performances de premier ordre dans les applications de lithographie exigeantes. Sa combinaison de débit rapide, une qualité d'imagerie supérieure, un contrôle d'exposition robuste, une grande profondeur de focalisation et une assistance logicielle complète font de cette plateforme un choix idéal pour les clients qui souhaitent repousser les limites de la lithographie.