Occasion ASML XT 1400F #9237068 à vendre en France
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ID: 9237068
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Immersion lithography system, 12"
2006 vintage.
ASML XT 1400F est un équipement de lithographie masqué à haute résolution et grand champ conçu pour la production de matrices semi-conductrices avancées. Il se compose d'une source lumineuse lumineuse intégrée, d'une optique de projection optimisée et d'un étage nanométrique de précision pour la manipulation du substrat. XT 1400F intègre une source de lumière ultraviolette (UV), avec la capacité de produire des lignes de haute puissance et des arcs avec une longueur d'onde de 193nm. Ce flux lumineux ultra précis est projeté à travers un filtre spatial et des composants optiques de l'optique de projection sur l'étage de la plaquette. Le nombre de photons et l'homogénéité de l'éclairage peuvent être réglés avec précision pour des applications individuelles. Les optiques de projection sont conçues pour fournir une résolution inégalée et l'uniformité du champ d'exposition sur 12000 mm2. Il comporte des configurations de multiplexage, différentes tailles de lentilles, des capacités d'alignement laser et de réglage de la focale, ainsi qu'un système intégré de réduction de la contamination pour fournir un environnement propre. L'étage nanométrique est spécialement conçu pour manipuler des plaquettes jusqu'à 300mm. Il fournit une plage de mouvement de 200nm dans la direction X et Y et une plage de mouvement Z de 20nm, ainsi qu'une vitesse de balayage allant jusqu'à 5000mm/sec. L'unité de transfert robotique de plaquettes ASML XT 1400F peut manipuler plusieurs plaquettes en même temps et permet un placement précis de plaquettes sur la scène sans collecter les contaminants de l'environnement. Les fonctions avancées de contrôle et de métrologie de XT 1400F garantissent une précision et une répétabilité absolues dans la production. La machine intègre une suite embarquée d'outils de contrôle de processus pour un fonctionnement stable et fiable. En outre, ses algorithmes avancés basés sur la rétroaction permettent une adaptation rapide du processus d'exposition à l'environnement changeant, améliorant le contrôle du processus et maximisant le rendement. ASML XT 1400F est un outil efficace, fiable et robuste pour la lithographie sans masque, offrant des performances de pas de plaquettes avec un débit élevé, une excellente précision de recouvrement sans marques d'alignement sur la plaquette, et une résolution inégalée.
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