Occasion ASML XT 1700FI #9269682 à vendre en France

ASML XT 1700FI est un pas de tranche en immersion plein champ (FFI) de 5e génération utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour produire des circuits intégrés (IC). Cette machine est équipée d'un auto-collimateur très avancé pour fournir des performances de lithographie supérieures et une précision de ≤ 0,2 μ m à une taille de champ de ½ pouce. ASML XT1700FI dispose d'un équipement d'imagerie optique à immersion « fluorure de krypton » qui fournit une ouverture numérique (NA) extrêmement élevée allant jusqu'à 1,38, et permet de modéliser des tailles de caractéristiques allant de 8 nm à 20 nm. Le système FFI utilise un support afocal pour le nouveau processus d'imagerie 4D, qui accélère le débit et améliore ainsi la productivité ; et dispose d'une unité complète de suivi et d'analyse des plaquettes pour analyser le traitement post-image des plaquettes. La technologie de balayage intégrée de la machine permet de réduire les variations et de se concentrer sur les cibles d'imagerie pour une précision, une uniformité et une capacité d'inspection des défauts accrus. XT:1700FI présente une profondeur de champ de focalisation (FDOF) de plus de 70 μ m, permettant une résolution plus précise et la clarté de l'image sur toute l'image. La machine utilise également une machine « Ozone Clean » rapide et à faible bruit pour réduire la contamination par les photomasques, réduisant la contamination par les masques de 75 %, et est équipée d'un nouvel outil de modélisation thermique pour optimiser la climatisation afin d'éviter les non-uniformités de processus liées à la température. ASML XT:1700FI wafer stepper dispose également de capacités de métrologie avancées ASML, qui permettent de mesurer avec précision la performance d'exposition, le contrôle des défauts, le contrôle de dose et le contrôle de focalisation. En outre, la machine dispose d'un système de chargement automatisé de masque avancé, qui réduit le temps nécessaire pour charger le photomasque de 2700mm, et une variété d'options pour les recettes, les filtres, la surveillance et le choix de matériaux photorésistants. XT 1700 FI est un outil idéal pour les procédés de lithographie avancés et l'imagerie de précision. Il offre un débit, une stabilité, une précision et une répétabilité supérieures, permettant aux fabricants d'IC d'obtenir des tolérances plus strictes et des rendements améliorés avec des délais de traitement plus rapides.