Occasion ASML XT 1950Hi #293802187 à vendre en France
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ID: 293802187
Taille de la plaquette: 12"
Lithography system, 12"
Load ports laser
Hard Disk Drive (HDD)
Immersion lithography: 193 nm
Resolution capability: 38 nm
Overlay:
SMO: 4 nm
MMO: 7 nm
Throughput: 148 WPH
CYMER XLR-560i
Resolution: 193 nm
Laser: 60 W / 6 kHz with E95 Bandwidth monitoring
Controls: UNIX / SUN Architecture
Aerial XP Illumination system
P type: Illumination alignment
Alignment: Blue align with narrow mark
Focus and Field-by-field levelling
Focus spot monitoring
Circuit Dependent Focus Edge Clearance (CD-FEC)
Dual E-Chucks
LS-MATCH2 (XT) Image streaming
Overhead reduction: 1 and 2
Productivity Enhancement Package (PEP)
In-situ metrology: Sensor module
UNICOM XT: Dose mapper ArF
(15) QUASAR XL Slots
Reticle shape correction
2DE Grid calibration
Twinscan overlay package
Water cooling for electronics cabinet
Integrated Reticle Library (IRL-XP) for H-SPEC Systems
Integrated Reticle Inspection System (IRIS-XT)
Reticle streaming: Spotless G and H
Twinscan Grid mapper
TEAL PCDU-XT1900 Distribution unit
FSM flex package
Aux port 300 mm FOUP / 25 Wafers
Reticle with defect: 40 nm
SMASH XY
ZEISS Starlight: 1950
XCDA Gas purification system:
Purifier canister: Optics series, 10 MH, SS
XCDA Gas purification system bypass manifold:
Manifold 3 Valve: 10 m
Filter housing
Cabinet
ESI Vaporsorb: EX2600
Filter set
Throughput: 148 WPH
CE Marked
Laser power: 60 W
Power conditioner: 135 kVA.
ASML XT 1950Hi est un pas de plaquette de pointe conçu pour la fabrication de semi-conducteurs à haut volume. Construit par ASML, un fournisseur de premier plan d'équipements de photolithographie, cet équipement représente les dernières avancées en matière de technologie de balisage, offrant une extrême précision et polyvalence pour la production de dispositifs semi-conducteurs avancés. Au cœur d'ASML XT1950HI se trouve sa plate-forme avancée, qui combine des solutions matérielles et logicielles innovantes pour permettre la précision des sous-nanomètres dans le contrôle des dimensions critiques. Ce niveau de précision est essentiel pour produire des dispositifs semi-conducteurs de nouvelle génération avec des caractéristiques toujours plus réduites et une complexité accrue. L'une des principales caractéristiques de XT 1950Hi est son système d'éclairage avancé, qui utilise la technologie d'éclairage multipolaire pour obtenir des conditions uniformes et à haute résolution sur toute la surface de la plaquette. Cette unité permet un contrôle précis de l'intensité lumineuse et de l'angle, permettant de modeler des motifs complexes avec une grande fidélité. En plus de sa machine d'éclairage avancée, XT1950HI est équipé d'un outil d'étage de haute précision qui permet une précision de positionnement sous-nanométrique. Cet atout d'étape permet un alignement précis de la plaquette sur le réticule, assurant un transfert précis des motifs du masque à la surface de la plaquette. Pour améliorer encore ses performances, ASML XT 1950Hi dispose d'un modèle d'autofocus haute vitesse qui ajuste rapidement la focalisation de l'objectif de projection pour maintenir une qualité d'image optimale pendant l'exposition. Cette caractéristique est essentielle pour atteindre une haute résolution et uniformité sur l'ensemble de la plaquette, en particulier lors de la fixation de structures complexes avec des profondeurs variables. ASML XT1950HI est également équipé d'un équipement avancé de manutention des réticules qui permet l'échange rapide et précis des réticules lors des opérations de production. Cette caractéristique est essentielle pour minimiser les temps d'arrêt et maximiser la productivité dans les environnements de fabrication à haut volume. En termes de productivité, XT 1950Hi offre une capacité de débit élevée, permettant aux fabricants de produire un grand nombre de plaquettes par heure avec un rendement et une fiabilité exceptionnels. Ce débit élevé est obtenu grâce à une combinaison de temps d'exposition rapides, de mouvements d'étape efficaces et de fonctionnalités d'automatisation avancées qui rationalisent le processus de production. XT1950HI est également conçu pour être très flexible, supportant une large gamme de tailles et de types de réticules pour répondre à différentes exigences de fixation. Cette flexibilité permet aux fabricants d'utiliser le système pour un ensemble varié d'applications, des dispositifs logiques et de mémoire aux technologies d'emballage avancées. Dans l'ensemble, ASML XT 1950Hi représente un progrès significatif dans la technologie des paliers de plaquettes, offrant une précision, des performances et une productivité de pointe pour la production de dispositifs semi-conducteurs avancés. Avec ses fonctionnalités et capacités avancées, cette unité est bien adaptée aux environnements de fabrication de semi-conducteurs les plus exigeants, où la précision et l'efficacité extrêmes sont primordiales.
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