Occasion ASML XT 760F #9237243 à vendre en France

ASML XT 760F est un outil pas à pas de plaquettes conçu pour des applications de lithographie utilisées dans la production de circuits intégrés. Il offre une haute résolution et uniformité, permettant une imagerie précise et répétable par rapport à d'autres paliers optiques traditionnels. ASML XT:760F est équipé d'un équipement de mouvement cinématique propriétaire qui est capable de générer un mouvement extrêmement précis et lisse pour le positionnement des lentilles et des miroirs. Ce système de mouvement est conçu pour une précision maximale avec des valeurs de dérive minimisées des étages latéraux et est capable de fonctionner à haute fréquence afin d'obtenir un processus d'imagerie stable et répétable. Il est également équipé d'un actionneur robotique Pololu à deux axes, spécialement conçu pour le mouvement de précision dans les applications lithographiques. XT 760 F utilise un scanner galvanométrique numérique haute performance pour l'imagerie. Ce scanner est conçu pour fournir un processus d'imagerie stable tout en assurant des déplacements de haute précision du miroir du scanner dans les axes X, Y et Z. Ce scanner est également équipé d'un module de mise en forme de faisceau qui permet l'imagerie haute résolution. Les modules logiciels et les fonctionnalités matérielles inclus permettent un contrôle et un alignement faciles et précis du scanner. XT:760F est équipé d'une caméra CCD haute résolution qui est conçue pour capturer une image de la plaquette une fois le processus de lithographie terminé afin de mesurer les caractéristiques de surface des IC. La caméra est également équipée d'un algorithme avancé de traitement d'image qui est conçu pour réduire le bruit et améliorer le contraste d'image. En outre, l'unité de caméra est conçue pour capturer des images avec de faibles niveaux de bruit thermique fournissant un environnement d'imagerie stable. XT 760F est un pas de plaquette hautement automatisé qui permet une imagerie fiable et répétable. Il est capable d'imagerie avec des résolutions jusqu'à 25nm, avec des temps d'exposition de quelques secondes seulement. La machine est capable d'une uniformité d'image constante sur une plaquette ainsi que d'une répétabilité fiable sur les plaquettes. En outre, il est très efficace, fournissant une imagerie simultanée de plusieurs plaquettes. Cela permet un débit maximum tout en maintenant un niveau élevé de précision et de précision.