Occasion ASML XT 760F #9276965 à vendre en France

ASML XT 760F est un outil d'exposition à semi-conducteurs à haut volume de production (wafer stepper) avec des capacités d'imagerie avancées pour supporter les cycles de production de wafer les plus avancés technologiquement. ASML XT:760F est un équipement multi-étages avec un Chuck 6 et un système de mesure de superposition (OMS). Il est capable d'imiter des plaquettes de 350 mm avec un haut niveau de précision et de vitesse. XT 760 F est conçu pour les applications d'imagerie critique utilisées dans les processus de pointe tels que la logique, la mémoire et l'analogique haut de gamme. Il dispose d'une source de rayons X propriétaire, offrant un contrôle de dose supérieur et une résolution énergétique élevée avec un TIRF minimal. XT:760F peut représenter entre 1 et 90 lignes en une seule exposition sans avoir besoin de piquer. Les algorithmes avancés de déphasage utilisés en XT 760F permettent l'imagerie sur les caractéristiques les plus délicates sans couture. ASML XT 760 F dispose également d'un OMS sophistiqué qui produit des corrections rapides, fiables et en temps réel en mesurant la précision de recouvrement par rapport à une couche d'alignement. ASML XT 760F a une taille minimale de 11 nm, peut atteindre des rapports d'exposition aussi élevés que 50:1, et supporte une large gamme de tailles de caractéristiques entre moins de 0,25 micron et jusqu'à 18 micron. ASML XT:760F permet des débits rapides allant jusqu'à 3 500 wafers par heure avec le support d'une unité fiable de suivi et de métrologie en ligne. XT 760 F est compatible avec les variétés de photorésist de pointe, y compris ArF, KrF, HSQ, et i-line, permettant d'améliorer la finesse de la fonctionnalité motivée. XT:760F intègre ASML Advanced Control Software Suite (ACS Suite), qui est conçu pour un contrôle intuitif, orienté processus à partir du point d'entrée unique d'un opérateur. La suite ACS fournit des algorithmes intégrés pour les fonctions d'imagerie critiques telles que la dose, le focus, l'alignement et la fidélité à l'exposition. XT 760F comprend également une interface tactile conviviale qui prend en charge le suivi des plaquettes, l'optimisation des machines et les fonctions d'alarme. L'ASML XT 760 F peut être facilement intégrée avec les systèmes de traitement ASML-Wafer existants et nouveaux, dotés d'une technologie de cartographie et de surveillance de la contamination des plaquettes de haute technologie. ASML XT 760F est conçu pour des performances d'imagerie optimales et est certifié conforme aux normes de l'industrie reconnues en matière d'exigences électromagnétiques, environnementales et de sécurité.