Occasion ASML XT 760F #9293671 à vendre en France

ASML XT 760F est un pas de plaquette haute performance conçu pour les processus photolithographiques. La machine est capable d'atteindre une résolution de 5 nanomètres et peut traiter une gamme de substrats, allant de la silice fondue, du quartz ou du saphir aux couches minces de silicium, de silicium germanium et de perovskite. La machine est équipée d'un système de balisage avancé conçu pour le balisage jusqu'aux plus petites tailles de fonctionnalités. Les principaux composants de l'ASML XT:760F sont l'étage de substrat avancé, le contrôleur pas à pas, le module d'alignement de masque et le module de traitement à grande vitesse. L'étage de substrat avancé est un étage mobile multi-axes de haute précision qui permet un positionnement précis et répétable du substrat. L'étage est capable de supporter une gamme de substrats pour le balisage et a été conçu pour minimiser les erreurs transversales. En outre, l'étage comporte des routines de calibrage embarquées qui peuvent s'ajuster aux imperfections de forme du substrat ou aux désalignements. Le contrôleur pas à pas est chargé de contrôler la position de l'étage et de régler les erreurs de mouvement non linéaires et les erreurs d'alignement. Le contrôleur est également chargé de contrôler l'exposition des plaquettes en fonction des paramètres de processus sélectionnés. Enfin, le contrôleur dispose d'une fonction autofocus pour assurer la focalisation la plus précise sur la surface de traitement pendant un temps d'exposition donné. Le module d'alignement du masque permet de créer avec précision des repères d'alignement et de compenser l'inclinaison des cercles non concentriques ou des formes déformées. Le module est conçu pour minimiser les désalignements et augmenter le rendement de chaque produit. Enfin, le module de traitement à grande vitesse permet à la machine de modéliser jusqu'aux plus petites tailles de caractéristiques à des vitesses très élevées. Le module est capable d'obtenir un temps d'exposition de 0,9 seconde, réduisant le temps d'attente entre les expositions. En résumé, XT 760 F est un pas de plaquette haute performance conçu pour les processus photolithographiques. La machine est capable d'atteindre une résolution de 5 nanomètres et peut traiter une gamme de substrats. L'étage de substrat avancé, le contrôleur pas à pas, le module d'alignement de masque et le module de traitement à grande vitesse font de l'ASML XT 760 F la machine idéale pour créer des produits photolithographiques de haute qualité avec un minimum de temps d'attente entre les processus.