Occasion ASML XT 760F #9311379 à vendre en France

ASML XT 760F est un pas de plaquette utilisé dans les applications de photolithographie. Il utilise une technologie d'imagerie pas à pas, qui est conçue pour transférer lithographiquement des mises en page structurées sur un matériau semi-conducteur. Ses principaux composants comprennent un pas, une source de rayons X, un aligneur, une lentille de lithographie et un équipement de mise au point optique. Le stepper est le cœur de la machine et fonctionne comme un projecteur. Il est équipé d'un étage x-y motorisé, d'un sous-système optique piézo-électrique très précis et d'une source lumineuse avancée. L'étage x-y déplace la plaquette à sa position désirée rapidement et avec précision afin qu'elle puisse être exposée à l'intensité lumineuse et à la direction optimales. Le mécanisme piézo permet de contrôler le mouvement de l'étage x-y et de focaliser les lentilles, ce qui permet un positionnement et un alignement précis de la plaquette sur le motif de lithographie. La source lumineuse génère un rayonnement UV et est stabilisée en longueur d'onde, ce qui garantit qu'elle reste compatible avec chaque exposition. Le système d'alignement assure un positionnement précis de la plaquette par rapport au motif sur le photomasque. La plaquette est balayée sur une « grille d'alignement », un ensemble de traverses et de marqueurs. Cela permet à la machine de détecter et de calculer les écarts entre la plaquette et le motif sur le masque, et d'effectuer rapidement les ajustements nécessaires pour s'assurer que le motif est correctement transféré. La lentille de lithographie est la composante physique que la lumière UV traverse avant d'irradier le substrat cible. Il est chargé de fournir la résolution et la précision souhaitées du motif lithographique. L'objectif contient une série d'éléments de focalisation qui lui permettent de façonner la lumière cependant est nécessaire. La lentille peut également basculer et tourner pour compenser les distorsions créées par la surface de la plaquette sous-jacente. L'unité de focalisation optique est utilisée pour s'assurer que l'intensité et la résolution correctes sont maintenues tout au long du processus lithographique. Il se compose d'une machine à autofocus, qui surveille la position focale de l'objectif d'imagerie de façon répétée pour s'assurer qu'il est toujours optimisé, et d'un laser ultra-haute puissance, qui est utilisé pour modifier précisément la forme du motif de lithographie. Enfin, l'outil de manutention de la plaquette est chargé de charger et de décharger la plaquette de la table de substrat de l'étape. Il est équipé de bras robotisés qui peuvent saisir et positionner solidement la plaquette, et d'une plate-forme tournante où la plaquette peut être placée. Le matériel de manutention de la plaquette est très précis et efficace, assurant un chargement sûr de la plaquette afin que le processus d'exposition puisse commencer rapidement.