Occasion ASML XTII / 1400F #9401145 à vendre en France

ASML XTII/ 1400F est un pas de plaquette, un équipement utilisé dans l'industrie de la microélectronique pour la production de dispositifs semi-conducteurs. C'est un outil de lithographie avancée qui utilise un faisceau de lumière ultraviolette pour transférer en série des motifs d'un réticule sur un substrat photosensible. XTII/ 1400F est un stepper KrF, c'est-à-dire qu'il utilise une longueur d'onde de 248 nm de lumière laser excimère KrF de haute énergie pour projeter un motif sur une plaquette recouverte d'une substance photosensible spécifique. Ce processus est appelé lithographie étape-répétition. L'étage comprend plusieurs composants clés, dont une source d'éclairage, une optique de projection, un étage réticulaire, un étage de plaque et un scanner. La source d'éclairage de l'ASML XTII/ 1400F est le laser excimère KrF. Ce laser émet un faisceau de lumière ultraviolette par une fente dans le masque réticulaire. Le faisceau traverse une ouverture correspondant au motif désiré sur le réticule. Le système de lentilles dirige alors la lumière sur le substrat cible. L'étage réticulaire de XTII/ 1400F permet un positionnement précis du réticule par rapport à la plaquette pour un alignement précis de l'image optique. L'étage de plaquette permet un mouvement précis de la plaquette par rapport à l'image optique projetée sur elle. Le scanner, une combinaison de deux miroirs de focalisation et de deux miroirs galvanométriques, est utilisé pour balayer avec précision le champ du réticule à travers le substrat. ASML XTII/ 1400F fonctionne à une vitesse allant jusqu'à 4 plaquettes par heure, avec une résolution aussi faible que 140nm. Il a une large taille de champ de motif allant de 10mm à 200mm, ce qui le rend apte à produire des motifs de différentes tailles sur différents substrats. Le stepper peut accueillir plusieurs substrats et offre la flexibilité à reprogrammer pour accueillir de nombreuses applications différentes. Pour assurer un positionnement précis et une uniformité sur le substrat, XTII/ 1400F est équipé de nombreuses fonctionnalités telles que la correction de distorsion spatiale programmable, les caméras d'alignement, la superposition, le contrôle des vibrations d'étage, et une plate-forme sophistiquée contrôlée par ordinateur. Ces caractéristiques font d'ASML XTII/ 1400F un choix idéal pour les applications dans les industries semi-conductrices, scientifiques et médicales.