Occasion CANON ES3 #9272653 à vendre en France

CANON ES3 est un équipement de lithographie semi-conducteur de haute précision qui utilise un pas de plaquette pour créer des dispositifs semi-conducteurs avancés. Il est conçu pour avoir la capacité de traiter un large éventail d'exigences de processus et peut produire des appareils entre 45nm et 180nm. Sa technologie pas à pas est un système à haut débit qui offre une efficacité maximale et une reproductibilité supérieure. CANON ES 3 dispose d'un module d'alignement et d'exposition, d'un étage de plaquettes, d'un mécanisme de transfert de plaquettes et d'une unité de hachage de plaquettes. Le module d'alignement et d'exposition est chargé d'analyser et de diriger le faisceau lumineux vers la position désirée sur la plaquette. L'étage de plaquette permet un pas et un positionnement précis des plaquettes pour un alignement précis avant exposition. Le mécanisme de transfert de la plaquette assure un déplacement précis de la plaquette entre l'étage de la plaquette et la zone exposée. La machine à hacher la plaquette assure un positionnement sûr et précis de la plaquette à chaque étape du processus de lithographie. ES3 utilise l'optimisation de l'éclairage pour améliorer la précision de l'exposition. Son outil d'exposition est composé d'un actif d'éclairage lithographique avancé, d'un modèle d'alignement laser et d'un objectif personnalisé précis. L'équipement d'éclairage est commandé par un laser à forte puissance qui aligne avec précision le faisceau pour l'exposition. Le laser utilise l'optique de bord, contrôlée avec précision, pour garantir la précision et l'uniformité de l'exposition. L'objectif personnalisé se compose de deux grandes lentilles indépendantes et de deux lentilles auxiliaires plus petites qui sont soigneusement alignées pour fournir une exposition uniforme à travers la plaquette. ES 3 dispose également d'un puissant système de métrologie capable de mesurer des paramètres critiques tels que la plage dynamique, la profondeur de focalisation, la largeur de ligne et la dimension critique. Cela garantit des mesures précises à des vitesses de contrôle rapides, fournissant aux clients des résultats détaillés et précis d'exposition et de lithographie. CANON ES3 wafer stepper est une unité puissante qui fournit des résultats lithographiques précis, fiables et de haute performance. Ses caractéristiques le rendent adapté à des applications allant de la simple filière à des conceptions complexes de puces haut de gamme. Son débit élevé et ses composants optiques précis garantissent le plus haut niveau de précision et de performance.