Occasion CANON FPA 121 #9177558 à vendre en France

CANON FPA 121 est un pas de plaquette utilisé dans le procédé de photolithographie pour la fabrication de semi-conducteurs. Il s'agit d'un équipement d'exposition avancé et performant avec une taille de plaquette de 8 pouces (200mm). FPA 121 a une ouverture numérique élevée (0,75) pour une plus grande résolution et une meilleure gravure. Un système de balayage dynamique (DSS) permet un transfert de motifs rapide et très précis en scannant l'étage avec des miroirs mobiles. Cette technologie assure également un positionnement et un alignement précis sur la plaquette, quelles que soient ses propriétés ou le nombre de motifs. CANON FPA 121 a un débit accru de 1,4 Wspm (plaquettes par heure) avec une seule unité d'éclairage de longueur d'onde, et une performance constante, même à haut débit. Il fournit également des technologies de pointe telles que le contrôle d'exposition automatique, la couture point à point, et le balayage rapide sur toute la surface de la plaquette. FPA 121 a un mandrin de masque arqué qui réduit la distorsion du substrat du masque et un alignement de masque avancé avec une large plage de mesure de 175µm. Il présente également une faible contamination avec une option d'implantation ionique et une table angulaire à six axes. Le pas avancé a une résolution améliorée de 32nm, permettant de graver les motifs avec précision et rapidité. Il dispose également d'une machine d'inspection automatique haute performance (API) qui améliore la précision de l'emplacement des défauts et les vitesses d'inspection. CANON FPA 121 a une unité d'approche rapide qui peut se déplacer rapidement entre deux points dans les deux axes X, Y et Z, permettant une disposition de masque de haute précision. Plusieurs modules peuvent être combinés pour former un seul outil pas-à-pas, ce qui le rend adapté à diverses applications de la ligne de production. En résumé, le FPA 121 est un actif d'exposition pas à pas et répétition performant qui offre des caractéristiques uniques comme une ouverture numérique élevée, un modèle d'analyse dynamique, un débit accru, des technologies de pointe, une faible contamination, une résolution améliorée et une unité d'approche rapide. Il convient à diverses lignes de fabrication de semi-conducteurs et est conçu pour assurer une gravure précise et rapide.