Occasion CANON FPA 1550 M IV-W #9296891 à vendre en France
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CANON FPA 1550 M IV-W Wafer Stepper est un outil de lithographie haut de gamme conçu pour produire des structures micro-échelle complexes de manière répétable et fiable. Au cœur se trouve une plate-forme de photolithographie de 6 pouces qui combine un système d'éclairage programmable, des étages au niveau du micromètre et une optique à haut débit. Ceci permet un transfert de motif fiable des plus petits éléments optiques, avec une précision inégalée dans l'industrie. CANON FPA 1550 MIV-W Wafer Stepper utilise des éléments optiques à haut débit pour l'imagerie précise de petites caractéristiques jusqu'à 60 nm. Le système d'éclairage dispose de sources lumineuses interchangeables, et la gamme de longueurs d'onde polyvalente de 434 nm à 590 nm est réglable pour correspondre à la propriété de la résistance. La correction avancée des aberrations assure un éclairage uniforme de la surface de la plaquette avec des erreurs de front d'onde minimisées, offrant une résolution d'image et une fidélité supérieures pendant l'exposition. Les étages de positionnement de FPA-1550 MIV-W Wafer Stepper sont conçus pour fournir une large gamme de mouvements, avec un espace de travail plus grand que d'habitude. Avec une taille de pas minimale de 0,05 μ m, et un temps de pas minimum de 30 msec, CANON FPA-1550 MIV-W peut atteindre un alignement de motifs de haute précision avec une précision extrême. L'étage de la plaquette comporte des rotations X-Y et orthogonales (θ) pour assurer un contrôle sans faille de la plaquette pendant l'exposition. L'optique scanner de FPA 1550 MIV-W fournit des grossissements de 4x à 60x, et la plage d'ouverture numérique de 0,25-0,7 offre des capacités d'imagerie en champ proche pour les caractéristiques topologiques. De plus, l'optique est conçue pour reproduire des matériaux photosensibles avec un contraste, une définition et une fidélité élevés. FPA 1550 M IV-W Wafer Stepper est un outil de lithographie complet, et est en mesure de passer harmonieusement entre les modes d'exposition simple et double. L'outil dispose également d'algorithmes de contrôle auto-dose et auto-focus, offrant une répétabilité et un débit inégalés. En outre, la machine est conçue pour être facilement intégrée dans un environnement de processus, permettant l'inspection et la validation automatisées des plaquettes. CANON FPA 1550 M IV-W Wafer Stepper est un outil unique et puissant qui est spécialement conçu pour les besoins des fabs CMOS d'aujourd'hui. Avec son débit élevé, sa précision et sa précision, la machine est bien adaptée aux exigences des procédés modernes de lithographie semi-conductrice, ce qui en fait un choix parfait pour des scénarios de fabrication exigeants.
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