Occasion CANON FPA 1550 MARK IV-W #293589762 à vendre en France
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ID: 293589762
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1995
i-Line stepper, 6"
HP1000 PC
Jeida standard wafer
Wafer type: OF
Reticle, 5":
QUARTZ Material type
Changer type: CANON Changer type-2
Case type: CANON Changer type-1
Optical system:
UL21-LS Lenz type
Magnification: 1/5
Field size: 22 mm
Illumination system:
Light source: Ultra-high pressure mercury lamp, 2.0 kW
Light control: Estimate exposure total
Masking function: (4) Independent blades
Wafer loader:
Type-1 / Type-2
Alignment light / HeNe Laser / HeCD Laser
Wafer alignment:
Type-1 / Type-2
System / HeNe Laser image processing / HeCD Laser sensor
Mode / AGA
Reticle alignment:
Type-1 / Type-2
Alignment light / g-Line
System / g-Line, TV image processing
XY Stage:
Type-2: Rolling around type
Automatic focus:
Type-2: LED PSD OPTF, 5-Channels
Wafer leveling:
Type-2: 3 Points drive global / Die by die leveling system
Mechanical pre alignment:
Type-2: Peripheral noncontact system
TV Pre alignment:
Type-1 / Type-2
System / OFF-Axis TV Image system
Carrier / (2) Loaders/(2) Unloaders
Chamber:
Type: TBW-CD-30W
Cooling system: Refrigeration unit/Heater control
Set temperature:
Booth:21℃
Stage/Lenz: 23°C
Reticle feeder: (14) Store reticles
CCD Camera
Inline: Stand alone
Signal tower
HeNe Laser missing
1995 vintage.
CANON FPA 1550 MARK IV-W est un pas de plaquette de pointe qui utilise une technologie d'imagerie de pointe pour fabriquer avec précision des structures et des composants de précision jusqu'au niveau du micron. Cet équipement intégré offre une gamme de fonctionnalités sophistiquées, telles qu'une lithographie de niveau NA élevé, une précision d'alignement de sous microns, un mouvement d'étage incrémental, une plage de résolution élargie et une taille minimale étendue. Il est également conçu avec une architecture modulaire et peut être étendu pour répondre à des besoins spécifiques. CANON FPA 1550 MARK IVW offre une lithographie étape-scan NA élevée pour la fabrication de mises en page personnalisées pour des structures et composants complexes. Cette fonctionnalité permet de produire rapidement des images précises et reproductibles avec une accélération maximale de 7Gs. L'opération de numérisation NA élevée et continue du système fournit une résolution ultra fine jusqu'au niveau du sous-micron et une plage de résolution étendue de 6,5 à 25 nm. FPA-1550 MARK IV-W a une précision d'alignement de 1 micron qui est intégré dans l'unité d'alignement avancée CANON Micromage. Ceci est alimenté par un très efficace en utilisant une combinaison d'éclairage segmenté et de détection de zone collimatée. Cela permet d'aligner et de traiter avec précision une large gamme de matériaux de substrat tels que le silicium, le verre et le quartz. La machine complète a une architecture modulaire, ce qui lui permet d'être équipée de 10 étages pas à pas, chacun avec une résolution maximale de 256 nm. Les composants disposent d'une mémoire embarquée qui stocke les informations de position et les données des fonctionnalités pour assurer le placement précis des composants. Cette fonctionnalité réduit l'erreur potentielle et accélère la production. CANON FPA-1550 MARK IV-W peut accueillir divers substrats avec une distorsion minimale et une taille minimale étendue de 0,2 micron. Il est équipé de CANON MicroMirror isolation des vibrations et CASA (Constant Acceleration Stress Absorber) filtre qui réduisent efficacement le risque de vibration et de distorsion d'image. Dans l'ensemble, FPA 1550 MARK IV-W est un pas de pointe capable de produire des structures et des composants précis avec une résolution et une précision sous-microns. Il dispose également d'un outil d'alignement avancé, d'une architecture modulaire et d'une isolation aux vibrations pour garantir des résultats optimaux dans un laps de temps minimal.
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