Occasion CANON FPA 2000 i1 #9033674 à vendre en France

CANON FPA 2000 i1 est un pas de plaquette sorti en 2005 et conçu pour des applications de haute précision. Il s'agit d'un équipement de lithographie étape-balayage qui a des capacités de haute productivité et d'uniformité d'image. Il est utilisé dans le processus avancé de photolithographie des semi-conducteurs. Il a appliqué la technologie de l'électro-optique à la plate-forme FPA-2000 réussie, ce qui a abouti à deux modèles de production, CANON FPA2000-I1 et le FPA-2000 i3. FPA-2000I1 modèle a un système d'éclairage de l'astigmatisme hors champ réduit (ROA) et une unité d'alignement de la machine d'alignement symétrique (SAS), tandis que le modèle FPA-2000 i3 comprend synchrone générateur de double motif (SDPG) est installé. CANON FPA-2000 I1 wafer stepper est composé de cinq composants principaux : un outil d'éclairage, un actif d'optique de projection, un modèle d'alignement, un équipement de travail du réticule, et un système d'étage de wafer. L'unité d'éclairage, qui se compose d'un laser, d'un piège à lumière et d'une combinaison de composants optiques réfractifs et/ou réfléchissants, est utilisée pour générer de la lumière et la diriger sur le réticule. La machine d'optique de projection, qui comprend une lentille asphérique et d'autres composants, est utilisée pour projeter l'image du réticule sur la plaquette. L'outil d'alignement est composé de capteurs de déplacement linéaires qui peuvent détecter les positions X, Y et Theta d'un réticule. L'actif du réticule consiste en un changeur de réticule, une bibliothèque de réticules et un échangeur de chaleur. Le modèle d'étage de la plaquette, qui se compose d'un scanner et d'un étage X-Y, est utilisé pour déplacer la plaquette dans les directions X, Y et Z. FPA-2000 I 1 a une taille de champ de 4 pouces (100 mm) et une taille de tir jusqu'à 4 pouces (25,6 mm). Il atteint une grande précision dans la superposition plan-à-tir (< 3µm plan-à-tir) et les largeurs de la ligne de 30nm. Le stepper a également la capacité d'exposition répétable pour des roulements de plaquettes jusqu'à 3 millions de coups sans intervention manuelle. Dans l'ensemble, CANON FPA-2000 I 1 wafer stepper est un équipement d'exposition lithographique fiable et de haute précision conçu pour le traitement des semi-conducteurs. Il offre un débit efficace, une grande précision et une fiabilité de processus répétable. C'est un système idéal pour les procédés semi-conducteurs avancés.