Occasion CANON FPA 2500 i2 #293604238 à vendre en France

CANON FPA 2500 i2 est un pas de projection ultramoderne et performant adapté à tous les processus de nanofabrication et de semi-conducteur. Il est spécifiquement conçu pour produire des photomasques extrêmement précis qui répondent aux exigences de qualité les plus élevées. CANON FPA-2500I2 est construit avec un mécanisme de chucking à vide breveté de haute précision qui supporte jusqu'à une plaquette de silicium de 200mm. Ce mécanisme fournit un environnement pratiquement statique qui assure le plus haut niveau de précision et de répétabilité. L'unité est équipée d'un équipement intégré d'éclairage réfléchissant de la lumière structurée coaxiale qui permet une uniformité de la lumière efficace sur l'ensemble du champ de vision. TheCANON FPA-2500 I2 a une optique à ouverture numérique variable avec une résolution de 2,5nm, ce qui en fait un choix idéal pour la fabrication de plaquettes semi-conductrices. Il est également équipé d'un objectif sphérique à faible distorsion qui permet d'atteindre une vitesse de focalisation pas à pas rapide. En outre, ce stepper dispose d'un système avancé de lithographie à balayage rapide qui réduit les temps de traitement et donne un niveau de débit plus élevé. Il dispose également de technologies antivibratoires avancées, telles qu'une grande base d'amortissement, pour aider à éliminer toute vibration pendant le fonctionnement. Enfin, FPA-2500I2 est construit avec une unité de commande très sensible qui permet un fonctionnement simple et efficace. Cette machine de commande a été conçue avec une interface conviviale pour la rendre facile à utiliser. il fournit également des informations détaillées sur tous les paramètres, tels que l'épaisseur de couche et les paramètres d'exposition, afin d'assurer une production cohérente et de qualité supérieure. Globalement, FPA-2500 I 2 est un pas remarquable pour les procédés de nanofabrication et de semi-conducteur. Il garantit une précision, une répétabilité et un débit de haute précision qui répondent aux exigences les plus élevées. Sa conception avancée, son outil de lithographie rapide, sa faible distorsion optique et son interface conviviale en font un choix idéal pour toute application semi-conductrice.