Occasion CANON FPA 2500 i2 #9298434 à vendre en France
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ID: 9298434
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1994
Stepper, 6", parts system
Power: 18.7 kVA
Reticle size: 6", CANON STD
Wafer feeder: Type-L
PA Unit: 6", O.F Type
Chamber: TBW-CD60
Illuminator: FPA-2500 i line
A Scope: i-line, TTL
T/Z-Tilt Unit: 3 (L,M,R)
Support mount: Servo passive damper 4
Lamp house: 1.5 kW
Electrical: 3Ø, AC 200 V, 50/60 Hz
1994 vintage.
CANON FPA 2500 i2 est un pas de plaquette haute performance conçu pour la production avancée de semi-conducteurs. Cette machine permet de produire des appareils avec des largeurs de ligne plus fines, des rendements plus élevés et un rendement sensible à la pression. Les technologies exclusives derrière cet équipement sont basées sur CANON testé-et-vrai iTRACT (Image Transfer, Registration, and Control Technology), et il fournit aux utilisateurs avec une précision et une répétabilité remarquables. CANON FPA-2500I2 dispose d'un large éventail de modes d'exposition, y compris un stepper à champ plein conventionnel, un stepper à balayage répétitif (RS) et un stepper à champ large (WFS). Le mode RS de ce système permet aux utilisateurs de travailler avec les zones exposées et non exposées d'une plaquette, aidant à la production de structures de dispositifs complexes. Le mode WFS de cette unité offre de la flexibilité pour traiter une variété d'étages de recouvrement, améliorant considérablement le débit par rapport aux systèmes pas à pas classiques. FPA-2500 I2 est également équipé du Peel Exposure Mode (PEM), qui permet aux utilisateurs de contrôler la superposition de plusieurs couches avec une grande précision. Cette machine dispose d'un 2,5 x 2,5 µm imaging_field_area et l'utilisateur peut ajuster la taille du faisceau par rapport à chaque couche de mode PE. CANON FPA-2500 I2 permet également aux utilisateurs d'ajuster le temps d'exposition et l'intensité lumineuse. La polyvalence et les performances de CANON FPA-2500 I 2 le rendent idéal pour la fabrication de circuits avancés. Cet outil fournit aux utilisateurs une excellente précision d'étape, leur permettant de travailler avec des structures difficiles et de réduire les coûts associés à la fabrication de masques. L'actif fournit également aux utilisateurs un large éventail de modes d'exposition, leur permettant de travailler rapidement et efficacement. Avec son fonctionnement robuste, FPA-2500I2 est un excellent outil pour la production de dispositifs semi-conducteurs.
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