Occasion CANON FPA 2500 i3 #293762557 à vendre en France

CANON FPA 2500 i3 est un pas de plaquette de pointe conçu pour la fabrication de photomasques de grand diamètre destinés à la lithographie en circuit intégré. Avec sa taille de masque de 1500 mm et une résolution de ligne exceptionnelle de 0,75 µm, CANON FPA-2500I3 offre une précision d'imagerie inégalée et un débit élevé. FPA-2500 I3 utilise des systèmes d'imagerie et d'éclairage avancés. Un équipement d'éclairage cohérent en deux étapes qui comprend un réseau broche-trou assure une homogénéité supérieure du champ d'imagerie et élimine les effets d'éléments perturbateurs tels que les butées de ligne et les aberrations de lentilles. Le système utilise un hexapode de haute précision pour contrôler précisément la position du champ d'éclairage par rapport au substrat de masque pour une précision maximale. CANON FPA-2500 I 3 dispose également d'un contrôle de scène précis avec la plus grande précision disponible. Il utilise une construction mécanique monolithique et ultra lisse en une seule pièce avec des mécanismes de pré-compensation avancés pour atteindre une répétabilité de position et une précision longitudinale de haute précision, ce qui réduit les aberrations unitaires au minimum. Cela permet à FPA 2500 i3 de garantir une excellente précision d'impression. En outre, FPA-2500I3 offre également un ensemble puissant de fonctionnalités de maintenance et de fonctionnement qui rend le fonctionnement quotidien plus facile et plus efficace. Sa Focus Monitor Machine de pointe utilise des capteurs optiques et des algorithmes d'analyse pour suivre et surveiller précisément les paramètres de la caméra tels que la profondeur de focalisation, le contraste et la largeur de ligne, de sorte que les processus d'imagerie et de modélisation sont effectués rapidement et avec précision. Dans l'ensemble, le FPA 2500 I 3 est un pas de plaquette puissant et précis conçu pour le balisage rapide et précis de photomasques de grand diamètre utilisés pour la lithographie de circuits intégrés. Sa construction monolithique monolithique, son éclairage avancé, ses systèmes d'imagerie et de contrôle de scène et ses fonctions de surveillance en font un outil essentiel dans tout laboratoire de fabrication de semi-conducteurs numériques.