Occasion CANON FPA 2500 i3 #9164887 à vendre en France

CANON FPA 2500 i3 est un pas de plaquette avancé utilisé pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. L'équipement utilise l'état de la technique de résistance à la technologie de traitement et d'imagerie, fournissant alignement de précision et lithographie pour multi-couches Fresnel Zone Plate (FZP) et circuits réseau. En plus de la fidélité ultra fine de l'image, le système fournit un débit de données rapide, un débit élevé, une grande précision et une faible consommation native. CANON FPA-2500I3 utilise une capacité de chargement complète de 8 pouces, avec une unité optique améliorée pour une résolution et un contraste améliorés. La machine dispose d'un étage XY haute précision pour un alignement précis des plaquettes. De plus, l'outil de stabilisation du mouvement à bord élimine les vibrations et améliore la qualité de l'image lors de l'exposition. FPA-2500 I3 est compatible avec le FZP multicouche traditionnel et les circuits réseau plus avancés. Il est doté d'une technologie avancée d'optique et de lithographie, offrant une impression haute résolution sur de petites géométries. L'actif fournit également des débits rapides et une exposition à grande vitesse pour la fabrication d'appareils ultra-rapides. La technologie de résistance embarquée fournit des procédés de contraste élevé, de basse température et de séchage rapide. L'optique lithographique intégrée et la technologie des ondes de dalle optimisent l'optique pour le circuit réseau intégré, fournissant une imagerie de précision et une précision et un débit améliorés. Le modèle offre également une large gamme d'outils de métrologie, pour la mesure de l'alignement de l'appareil et de la lithographie. L'équipement est également intégré à une gamme complète d'outils logiciels, fournissant une analyse et une assistance hors ligne des données. CANON FPA 2500 I 3 est le choix idéal pour une solution de tranche de haute précision, de haut débit et de qualité supérieure. Utilisant une optique de pointe, une technologie de lithographie et un traitement résistant, ce système fournit des performances de pointe dans l'industrie et fournit une imagerie et une lithographie précises d'une large gamme de dispositifs semi-conducteurs.