Occasion CANON FPA 3000 i5 #9086289 à vendre en France
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ID: 9086289
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1997
i-Line stepper, 8"
Wafer type: Silicon, notch
Wafer chuck: Notch ring
Wafer feeder:
Type: L
Inline station: Yes
Edge exposure unit: No
Reticle changer, 6"
Type: Normal
Additional library: Yes
PPC: Yes
RPC: No
Cassette barcode: No
Reticle barcode: No
AGV: No
EWS:
Type: 715
CPU: 64
2nd Lan Board: Yes
Console:
MO Driver: Yes
Remote: Yes
Printer: No
Job server: Yes
Online: Yes
Power receiving box: Type 52B
(3) Signal towers
Damper: Active
Chuck maintenance tool:
Cleaning plate: No
Chuck fork: No
UPS: FUJI
Lamp / Laser:
Mercury lamp: No
Halogen lamp: No
He-Ne laser: No
Laser head (inter ferometer): Yes
Other:
Lock tool: No
Bar mirror case: Yes
Chuck maintenance tool case: yes
C-Oil: No
Manual: No
Currently warehoused
1997 vintage.
CANON FPA 3000 i5 Wafer Stepper est un équipement d'alignement de précision conçu pour augmenter le débit et répondre aux exigences exigeantes de la fabrication d'appareils de nouvelle génération et de la production de wafer. Le système utilise une unité optique à balayage à quatre miroirs à cinq axes pour obtenir une haute précision et une répétabilité précise lors des processus de lithographie. CANON FPA 3000I5 Wafer Stepper est capable de manipuler jusqu'à 4 « ou 6 » wafers avec un haut degré de précision. De plus, la machine utilise un logiciel de lithographie avancé pour automatiser l'alignement des plaquettes et les processus d'exposition des plaquettes. FPA-3000 I5 Wafer Stepper dispose d'une gamme de caractéristiques optiques et mécaniques conçues pour fournir précision et polyvalence pendant le traitement des plaquettes. Les actionneurs mécatroniques fournissent un mouvement mécanique précis, permettant à l'outil de produire à la fois des images de haute qualité et des erreurs d'alignement minimes. En outre, deux ensembles de caméras de reconnaissance de motifs laser permettent l'acquisition d'images haute résolution et l'entrée de données pour les applications de lithographie. L'actif dispose également d'algorithmes d'alignement avancés pour aligner avec précision la plaquette et ajuster correctement les paramètres d'exposition pendant le processus de lithographie. CANON FPA-3000 I5 Wafer Stepper est également équipé d'un modèle optique avancé, comprenant une lentille d'imagerie de haute précision et des lentilles de zoom haute résolution, permettant un réglage précis de la focale et une correspondance de focalisation entre les étages d'exposition. Cela garantit une précision d'exposition constante et un haut degré de répétabilité pendant le processus d'exposition. Le stepper utilise également un équipement d'exposition breveté qui intègre l'exposition et la numérisation dans une procédure d'exposition unique et unifiée. Un système de diagnostic complet fait partie intégrante de FPA 3000 i5 Wafer Stepper. Cette unité automatisée fournit diverses fonctions avancées, y compris l'évaluation statique du modèle d'image, l'évaluation dynamique du modèle d'image, l'alignement du modèle d'image laser, l'évaluation des performances et l'ajustement automatique des paramètres d'exposition. En outre, les données stockées et archivées provenant de processus antérieurs peuvent être utilisées pour fournir une rétroaction rapide et efficace au besoin. Enfin, FPA 3000I5 Wafer Stepper dispose également d'une gamme complète de fonctionnalités conviviales toutes conçues pour réduire la charge de travail des opérateurs et améliorer l'efficacité. Des contrôles entièrement intégrés garantissent que les processus d'exposition et de numérisation sont correctement contrôlés et optimisés, tandis qu'une interface utilisateur intuitive offre un accès facile à divers paramètres d'exposition et de numérisation. De plus, la machine est compatible avec le logiciel de traitement d'image laser CANON, permettant des configurations avancées des règles d'exposition et de numérisation, l'analyse des données et la génération de rapports. Au total, CANON FPA 3000 i5 Wafer Stepper est un outil fiable et hautement capable conçu pour répondre aux exigences exigeantes des derniers procédés de fabrication et de fabrication de wafer.
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