Occasion CANON FPA 3000 i5+ #9280839 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 9280839
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2000
Stepper, 8"
PC Model: EWS B180L
Wafer standard: JEIDA
Wafer type: Notch
Reticle type: 6"
Material: Quartz
Changer type: HITACHI
Case type: HITACHI
Optical system:
Magnification: 1/5
Field size: 22 mm
NA: 0.63~0.45
Screen size: 6"
Illumination system:
Light source: 2.0 kW Ultra-high pressure mercury lamp
σ: 0.7~0.3
Estimate exposure light control
Masking function: (4) Independent blades
Wafer loader type: Notch, 8"
Wafer holder type: Notch, 8" TIO2
Wafer alignment:
Alignment light: HeNe Laser / Broad band
System: Clear vision field image processing
AGA Mode
Reticle alignment:
Alignment light: i-Line
System: Clear vision field image processing
XY Stage:
System: 3-Axis laser interferometer
Stroke:
X: 115 mm ~ -115 mm
YX: 115 mm ~ -115 mm
2000 vintage.
CANON FPA 3000 i5 + est un équipement de lithographie à haut débit et petit champ conçu pour des applications de lithographie de pointe. La conception optique à deux étages du système utilise une lentille haut-NA, grand champ pour obtenir la plus haute résolution, la plus petite taille de fonctionnalités et le plus haut débit pour les réticules 2x ou 6x. Cette unité robuste, offrant une taille de champ de 5,5 mm, est construite sur la conception opto-mécanique de pointe de CANON, offrant un fonctionnement fiable et stable et une large gamme d'exposition. Et avec sa machine de vol avancée, ses capacités d'alignement et de mesure, l'outil offre une maintenance et un fonctionnement encore plus faciles. CANON FPA 3000I5 + est conçu pour répondre aux exigences les plus strictes des principaux fabricants mondiaux de semi-conducteurs. Il dispose de l'optique de projection la plus haute résolution de l'industrie, combinée à des méthodes avancées de contrôle de dose et de mesure, pour les applications les plus exigeantes en lithographie 300mm. L'unité optique de haute précision fournit la résolution exceptionnelle et la fidélité d'exposition pour l'exposition avancée de balayage. La technologie unique de correction asymétrique CANON permet d'optimiser la précision des superpositions et de réduire le taux d'erreur des petites proies. La conception porte-air offre un positionnement très précis et un fonctionnement stable, permettant une fiabilité et des rendements de traitement encore plus élevés. La conception avancée de l'étage X-Y dispose d'une précision de position en boucle fermée et d'un contrôle vitesse/accélération. FPA-3000 I5 + dispose également d'une multitude de fonctions et d'options standard, y compris des mesures d'alignement multifréquence, un balayage par focalisation et une technologie exclusive de contrôle de l'exposition. Dans l'ensemble, FPA 3000I5 + est un atout idéal pour les applications en lithographie 300mm. Avec sa conception robuste, son optique de haute précision et son contrôle d'exposition avancé, il est idéal pour la lithographie à petit champ, vous permettant d'atteindre la résolution et le débit les plus élevés avec le coût total le plus bas. Le design intelligent associé à des performances complètes et fiables font de ce modèle un excellent choix pour tous ceux qui recherchent une technologie et des performances avancées.
Il n'y a pas encore de critiques