Occasion CANON FPA 3000 i5 #9311794 à vendre en France

CANON FPA 3000 i5 est un marchepied de wafer leader mondial et un système de lithographie de pointe, spécialement conçu pour la nanotechnologie de l'ADN. Il est capable d'imiter des motifs inférieurs à 100nm avec un recouvrement < 2nm et jusqu'à 150nm avec un recouvrement < 5nm. Cet outil puissant est idéal pour des applications de haute précision telles que le photomasque, la lithographie sous-résolution, les technologies de semi-conducteur et de stockage de données. Le pas de plaquette i5 se caractérise par son ultra haute résolution et sa gamme dynamique, sa grande vitesse et fiabilité, son faible coût de maintenance et sa facilité d'utilisation. CANON FPA 3000I5 se compose principalement d'un module d'éclairage, d'un étage de plaquettes et d'une colonne. Le module d'éclairage fournit une source lumineuse lumineuse à la plaquette, permettant un champ de vision extrêmement large et une grande ouverture numérique. L'intensité élevée de la source lumineuse combinée au large champ de vision permet au système d'images caractéristiques avec une très grande précision. En outre, la source lumineuse est équipée d'un ensemble de filtres qui permettent aux utilisateurs de modifier les longueurs d'onde de la lumière émise, permettant à l'utilisateur de contrôler la puissance de la source lumineuse, l'intensité et les sensibilités spectrales de la plaquette en cours d'imagerie. L'étage de plaquettes est constitué d'un porte-plaquettes, d'une diode laser, d'un axe de mouvement et d'un moteur z. Le porte-plaquette insère et retire solidement la plaquette de l'étage, tandis que l'alignement de la diode laser fournit un moyen optique pour aligner rapidement et précisément la plaquette sur l'étage. L'axe de mouvement et le moteur z permettent à l'utilisateur de déplacer précisément la plaquette dans n'importe quelle direction, balayant efficacement le substrat à travers le champ de vision. L'étape dispose également d'une fonction de réinitialisation automatique qui permet de rappeler rapidement les paramètres d'exposition pour divers processus d'exposition. FPA-3000 I5 est accessible via une interface graphique conviviale et est contrôlé par un ordinateur de bord puissant. Les paramètres de fonctionnement tels que les temps d'exposition, les taux d'exposition et l'intensité lumineuse peuvent également être ajustés, ce qui permet aux utilisateurs d'adapter l'outil de lithographie à des processus de fabrication ou à des exigences d'application spécifiques. En outre, les utilisateurs peuvent accéder à une variété d'options de personnalisation qui permettent à l'utilisateur d'ajuster la vitesse de l'étage de plaquette et l'emplacement de la zone irradiée. CANON FPA-3000 I5 est un excellent outil pour le photomasque, la lithographie sous-résolution et les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Avec sa haute résolution, sa gamme dynamique et son efficacité, l'i5 permet aux utilisateurs de fabriquer rapidement et avec précision des composants et composants d'appareils pour une multitude d'applications. L'interface utilisateur intuitive, les réglages personnalisables des instruments et les faibles coûts de maintenance font de l'i5 un outil inestimable pour tout ingénieur ou scientifique impliqué dans la fabrication de composants de nanotechnologie.