Occasion CANON FPA 3000 iW #9151772 à vendre en France

CANON FPA 3000 iW est un pas de plaquette de pointe offrant des performances et une fiabilité supérieures. Ce pas de plaquette est utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, y compris les procédés de lithographie, et est conçu pour une haute précision et précision. Il est capable d'atteindre une résolution de 100nm et dispose d'un équipement d'éclairage 0.33NA. CANON FPA 3000IW wafer stepper est un appareil avancé conçu pour fournir des processus de lithographie prêts à la production. Ce dispositif est capable de réaliser des processus d'exposition simple et double, ainsi que des outils step-and-repeat et cluster. Il dispose d'un diamètre d'exposition ultra court de 100nm. Ce système très compact est spécialement conçu pour optimiser l'utilisation de l'espace. FPA-3000IW dispose également d'une conception de scène qui fournit trois axes de synchronisation et de temps de décantation rapide. Cela permet un alignement précis et précis de chaque filière. Il dispose également d'un refroidisseur d'étage optimisé conçu pour assurer la stabilité du processus même dans des conditions changeantes. Une machine d'alignement actif intégrée est également incluse pour assurer des alignements de haute précision du champ de lithographie. L'optique intégrée de projection d'images FPA est conçue pour fournir des générations d'images claires sur une plage de T dans une lentille à diffraction limitée. Il fournit également l'enregistrement de modèle en position. De plus, l'outil d'éclairage avancé est conçu pour effectuer un éclairage exactement égal sur la zone d'exposition. CANON FPA-3000 IW a un design robuste avec un haut degré de fiabilité et de disponibilité. Il offre un atout logiciel pour la détection et la correction des perturbations et autres erreurs. De plus, il est doté d'une conception qui permet une intégration flexible avec différents systèmes d'exploitation et un transfert de données à grande vitesse. En conclusion, FPA 3000 I W wafer stepper est un dispositif avancé conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il est capable d'obtenir une précision et une précision élevées avec son modèle d'éclairage 0.33NA et un diamètre de tache d'exposition ultra-court de 100nm. Il dispose d'un équipement de refroidissement de scène optimisé et d'un système d'alignement actif. En outre, ce dispositif a une conception robuste qui est très fiable et offre une unité efficace pour effectuer des processus de lithographie.