Occasion CANON FPA 5000 AS2 #136492 à vendre en France

CANON FPA 5000 AS2 est un pas de plaquette (également connu sous le nom d'outil d'exposition) utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs. Elle fait partie de la famille de technologies CANON e-Beam, leader dans les outils de lithographie pour l'industrie des micropuces. Le FPA 5000 AS2 est un outil haut de gamme, capable de répondre aux besoins du prototype et de la plaquette de production avec une productivité améliorée et une excellente qualité d'image. Les capacités d'exposition de CANON FPA 5000 AS2 sont conçues pour les processus pas à pas, répétitifs et continus. Ses technologies d'exposition comprennent à la fois le faisceau électronique à balayage (SEB) et les méthodes d'exposition au point volant. La méthode d'exposition Flying Spot utilise un faisceau d'électrons statique et une projection mobile de l'équipement de la lentille, fournissant un débit élevé avec une grande précision et précision. Le système d'exposition sur FPA 5000 AS2 est équipé d'une unité d'auto-alignement qui accélère considérablement les temps de traitement tout en assurant la précision de l'alignement. La machine d'auto-alignement utilise un outil de détection des marques d'auto-alignement qui prévient les désalignements de motifs qui peuvent être causés par le désalignement des plaquettes ou des plaquettes déformées. L'actif de contrôle de position du faisceau de CANON FPA 5000 AS2 offre plus de souplesse avec son modèle de suivi automatisé. Cet équipement peut suivre les modèles et effectuer des corrections à l'aide de signaux de rétroaction externes. De plus, les systèmes de contrôle et de surveillance de faisceau FPA 5000 AS2 sont capables de maintenir des paramètres de faisceau prédéterminés tout au long du processus de fabrication. CANON FPA 5000 AS2 grande taille de balayage et haute résolution capacités d'imagerie lui permettent de produire des images avec un niveau acceptable de fidélité d'image pour une large gamme de fabrication de plaquettes. Son imagerie haute résolution garantit également que les images affichent un contraste et une netteté supérieurs. La vulnérabilité du matériau FPA 5000 AS2 à faible énergie est minimisée par le système SEB à faible énergie et la faible tension de chambre SEB de l'outil. La faible tension de chambre SEB permet de minimiser la contrainte thermique du substrat, ce qui préserve les spécifications et les rendements du dispositif. Le FPA-5000 comprend une unité d'archivage des recettes qui permet aux clients d'accéder et de stocker les recettes de configuration. Cette fonction permet aux clients de personnaliser leurs fichiers de recettes pour mieux répondre à leurs besoins. CANON FPA 5000 AS2 est également capable d'utiliser pseudo-O2 au lieu de O2. Pseudo-O2 réduit le temps total de traitement dû à l'élimination des étapes intermédiaires. De plus, le FPA 5000 AS2 comprend une capacité d'échange de réticules à plusieurs niveaux. Ceci offre des temps de cycle réduits grâce au chargement et au déchargement simultanés des réticules. Dans l'ensemble, CANON FPA 5000 AS2 wafer stepper est un outil haut de gamme pour les besoins des prototypes et des plaquettes de production. Ses caractéristiques offrent une fidélité supérieure à l'image, une vulnérabilité des matériaux à faible consommation d'énergie, une productivité accrue et une meilleure précision d'alignement.