Occasion CANON FPA 5000 ES #9200127 à vendre en France

CANON FPA 5000 ES est un pas lithographique de pointe conçu pour permettre aux fabricants de produire avec précision et efficacité des dispositifs semi-conducteurs. Il a une résolution de 5 micromètres, lui permettant de produire des fonctionnalités ligne/espace haute résolution jusqu'à 0,25 micromètre de largeur. Cela le rend adapté à la fabrication de dispositifs semi-conducteurs de haut volume et avancés. Les dimensions extérieures de FPA 5000 ES sont 2710 x 1750 x 1625 mm, avec une taille de champ standard de 50,8 x 50,8 mm. L'alimentation électrique du stepper est une gamme de voltage d'AC100/AC200 standard de l'industrie, avec une mise à niveau d'alimentation électrique DC/AC300 optionnelle. CANON FPA 5000 ES a une conception à trois lentilles utilisant des angles de champ de 0 °, 90 ° et 277 ° pour couvrir toute la zone de champ de 50,8 mm. Une démagnification optique de 4.0x donne à l'étape une plus grande profondeur de mise au point et une grande précision de hauteur d'image. FPA 5000 ES utilise un équipement d'éclairage télécentrique à trois étages qui permet un placement précis des caractéristiques lithographiques sans éruption. L'éclairage est réglable en termes d'intensité et d'homogénéité sur toute la zone de champ, facilitant la production de motifs lithographiques optimisés. Avec son système d'imagerie Multi-Projection, CANON FPA 5000 ES peut simultanément exposer plusieurs tailles de champ tout en conservant une grande uniformité d'exposition champ à champ. Il est également possible d'exposer des champs de tailles différentes à des moments différents, selon le travail lithographique. En plus de ses caractéristiques standard, FPA 5000 ES dispose également d'un module FPD optionnel (Flat Panel Display) pour la lithographie de lunettes. Ce module permet une exposition de motifs plats avec une grande précision, permettant la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avec de petites structures pointues. CANON FPA 5000 ES est un puissant pas de plaquette qui se distingue par sa résolution supérieure et sa compatibilité avec plusieurs systèmes de lithographie. Son mode de fonctionnement économe en énergie, son unité d'éclairage avancée et sa machine d'imagerie Multi-Projection en font un outil exceptionnel pour la production de dispositifs semi-conducteurs de haut volume et de haute qualité.