Occasion CANON FPA 5000 ES3 #9272923 à vendre en France
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Vendu
ID: 9272923
Stepper, 8"
Linux console
Clean chamber
JBL Side main piping unit missing
Touch screen display: Front and rear
Keyboard: Front and rear
Mouse: Front and rear
Auto feeder:
Type: R Type
Inline
Wafer type: Flat
No Relay unit
Reticle changer, 6"
Options: PPC, BCR
NIKON Cassette
Wafer stage: Pin chuck
Krf Line illuminator: 248 nm
Switchboard
Hard Drive Disk (HDD)
Missing parts:
MBX/MBX-CD PCB BG3-3868
UL-CD3 PCB BG3-7525
Excimer laser
AS-CAMERA-R BM5-7973
AS-CAMERA-L BM5-7973
Work station
2001 vintage.
CANON FPA 5000 ES3 Wafer Stepper est un équipement de lithographie de pointe utilisé pour la fabrication de semi-conducteurs de pointe. Le système comporte une phase de traduction en deux étapes qui augmente le débit et permet un alignement précis de la cassette d'exposition. CANON FPA 5000ES3 a intégré les caractéristiques de conception d'une unité d'exposition massivement parallèle (MPE) en utilisant six capteurs CCD CANON et une fenêtre d'exposition haute résolution. La conception des fenêtres d'exposition permet une grande variété d'applications de fabrication, y compris la production de puces intégrées à haut rendement pour l'électronique grand public. FPA-5000 ES3 fournit un grossissement maximal jusqu'à 5000x, avec une résolution jusqu'à 0,25 um. Il utilise huit configurations de lentilles, y compris des optiques d'exposition alternatives telles que des lentilles d'indice convexes, concaves et multi-f. Des sources d'éclairage spécialisées, telles que l'éclairage ponctuel, peuvent également être utilisées pour les variations de conception. La machine dispose également d'un mécanisme d'obturation à haute sensibilité pour obtenir une intensité d'exposition uniforme sur tous les plans. L'outil est équipé d'un actif de traitement d'image de classe mondiale, offrant une grande variété d'options de réglage d'image. Le logiciel utilise des technologies de pointe pour ajuster les effets d'éclairage, les photopatterns appliqués, et faire d'autres ajustements pour améliorer la précision et la cohérence de l'image. Le logiciel offre également une base de données d'images, permettant aux utilisateurs de stocker et de visualiser les modèles, les recettes et tout autre paramètre d'exécution. CANON FPA 5000 ES 3 est conçu pour soutenir une gamme d'applications lithographiques avancées incluant les UV profonds, EUV et X-Ray. Il est également équipé d'une variété d'autres fonctionnalités, y compris un étage pneumatique très efficace, CPU et RAM intégrés, et la compatibilité matériel/logiciel avec CANON advanced wafer stepper systems. Ce modèle est conçu pour répondre aux besoins de production les plus exigeants, ce qui en fait un outil puissant pour tout fabricant de semi-conducteurs.
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