Occasion CANON FPA 5500 iZa #293606900 à vendre en France

CANON FPA 5500 iZa wafer stepper est un équipement de lithographie semi-conducteur conçu pour modeler des plaquettes extrêmement grandes jusqu'à 300mm. Le système dispose d'un étage avancé précis avec un codeur haute résolution pour la plus grande précision et la surveillance et le contrôle de l'unité avancée pour le débit maximum. La machine est adaptée pour la production et la production de silicium sous-30nm aux noeuds 65nm et au-delà. L'outil utilise une lithographie ionique lourde avancée pour garantir la précision des motifs de pointe et les performances de superposition. Les capacités de résolution vont de 0,7nm ligne/espace jusqu'à 15nm, tandis que les capacités de recouvrement vont de 1.3nm jusqu'à 15nm. La lithographie ionique lourde avancée aide à améliorer la productivité avec un débit plus élevé, moins de changements réticulaires, et moins d'expositions. CANON FPA-5500IZA wafer stepper est alimenté par un actif de contrôle de supervision de haute performance, le CORE GXP 266, qui comprend un modèle d'exploitation basé sur l'application et la flexibilité maximale de l'application. FPA 5500IZA dispose également d'une optique de projection de pointe, de systèmes d'étage et de détecteurs, et d'un équipement fixe de manutention des plaquettes 5 axes. CANON FPA-5500 IZA dispose également d'un niveau de pureté avancé, de stabilité thermique et de réduction des vibrations pour des performances de fonctionnement élevées. La technologie Free Scanning Mode (FSM) améliore encore les performances de fonctionnement, permettant de scanner l'exposition de la plaquette sans avoir besoin de réinitialiser l'ensemble de l'étape. Il dispose également d'une technologie de pointe capable de scanner jusqu'à 0,42 um/s pour réduire le temps d'exposition de la caméra et augmenter le débit. FPA 5500 iZa est un leader dans la production de plaquettes avec des performances lithographiques de pointe, une capacité ultra haute résolution et des niveaux avancés de fiabilité, de précision et de débit. Ce système est idéal pour la réalisation de dispositifs complexes et le montage des noeuds semi-conducteurs les plus avancés de 65nm et 45nm.