Occasion CANON FPA 5510 iX #293636290 à vendre en France
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ID: 293636290
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2014
Stepper, 12"
Reticle size: 6"
Overlay accuracy: ≤ 50 nm
Resolution: ≤ 500 nm
Numerical aperture (NA): 0.28 - 0.37
Exposure area: 52 mm x 56 mm
2014 vintage.
CANON FPA 5510 iX est un pas de plaquette conçu pour fabriquer des semi-conducteurs. La machine est conçue pour une production à haut volume et offre une solution précise et hautement intégrée pour la photolithographie. CANON FPA-5510IX est équipé d'une source lumineuse très efficace et d'une optique avancée qui transfère avec précision des images sur des plaquettes semi-conductrices, ce qui constitue une partie importante du processus de fabrication. Il dispose d'un équipement optique optimisé, qui réduit les désalignements et assure une imagerie précise. Le système intègre une fonction d'autofocus avancée qui peut détecter de petites variations dans la surface de la plaquette et ajuster avec précision le foyer en conséquence. L'unité est alimentée par un logiciel qui peut ajuster les paramètres du processus d'imagerie en fonction du type et de la taille de la plaquette utilisée, permettant une imagerie plus rapide et plus précise. L'interface conviviale permet un fonctionnement et un suivi faciles des performances du marchepied. La machine est équipée d'un zoom numérique, ce qui est idéal pour réduire les défauts dans les microblogs des conceptions de semi-conducteurs intégrés à grande échelle. Il supporte également l'espacement variable des lignes, ce qui est important pour les conceptions à plus haute résolution. En outre, le stepper peut être programmé pour analyser une zone plusieurs fois, augmenter la résolution et réduire les taux de défauts. FPA 5510 iX est conçu avec un dissipateur thermique à haut rendement et une machine de refroidissement intelligente, évitant la surchauffe et réduisant la consommation d'énergie. Il est également capable de fonctionner à grande vitesse, ce qui permet un débit maximum. FPA-5510IX a été conçu pour une fiabilité maximale et une production à haut volume, grâce à son optique avancée, son outil d'autofocus et ses fonctionnalités logicielles. Le stepper est une solution efficace pour la photolithographie des semi-conducteurs et fournit des résultats d'imagerie rapides et fiables.
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