Occasion CANON FPA 6000 ES6a #9293799 à vendre en France

CANON FPA 6000 ES6a
Fabricant
CANON
Modèle
FPA 6000 ES6a
ID: 9293799
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2007
KrF Scanner, 8" 90 nm 2007 vintage.
CANON FPA 6000 ES6a Wafer Stepper est un système de lithographie ultraviolette de pointe utilisé dans la fabrication de circuits intégrés (IC). La machine combine une optique laser avancée, un étage 6 axes de haute précision et un transport automatisé de cassettes pour augmenter le débit et réduire le temps de traitement des plaquettes. La machine est capable de produire des caractéristiques aussi petites que 15 nanomètres et est bien adaptée à la production de circuits intégrés haute densité, de dispositifs de mémoire et de composants optoélectroniques. CANON FPA 6000ES6A dispose d'un laser ARF 193nm comme source d'excitation, permettant une résolution beaucoup plus élevée que la lithographie KrF, qui est la norme de l'industrie. Le laser est focalisé et dirigé à l'aide d'un collimateur optique de haute précision et d'un ensemble de direction à miroirs à 6 axes, qui est capable de positionner avec précision le faisceau selon les spécifications du nanomètre. L'étage dispose d'un scanner laser haute résolution intégré, lui permettant de régler avec précision la plaquette à l'emplacement approprié avant l'exposition. La machine est également équipée d'un système de transport automatisé de cassettes, qui permet le chargement et le déchargement rapides de plaquettes dans le système. Cela permet de traiter plusieurs plaquettes dans chaque cycle, conduisant à une augmentation significative du débit. De plus, le mécanisme de transfert est équipé d'un flipper de plaquette, permettant de transférer rapidement des plaquettes de la cassette à l'étage et à nouveau. Dans l'ensemble, FPA-6000ES6A Wafer Stepper est un outil efficace et fiable pour le traitement des semi-conducteurs. La combinaison de l'optique laser avancée, de l'étage 6 axes et du transport automatisé des cassettes lui confère des capacités exceptionnelles de traitement des plaquettes. Il est bien adapté pour produire des IC complexes à haute densité et des dispositifs à mémoire, ce qui en fait un outil inestimable dans l'industrie moderne de la fabrication de semi-conducteurs.
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