Occasion CANON FPA 8000 iW #293817792 à vendre en France
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ID: 293817792
I-line stepper
Numerical Aperture (NA): 0.24-0.16
Resolution: ≤1000 nm
DCO: 200.
CANON FPA 8000 iW est un pas de plaquette de pointe conçu pour l'industrie des semi-conducteurs. En tant qu'outil critique dans le processus de fabrication des circuits intégrés, les paliers de plaquettes jouent un rôle pivot dans la définition des motifs complexes sur les plaquettes de silicium qui constituent la base des dispositifs semi-conducteurs. FPA 8000 iW de CANON est un pas très avancé et précis qui offre une large gamme de caractéristiques pour répondre aux exigences exigeantes de la fabrication moderne de semi-conducteurs. Au cœur de CANON FPA 8000 iW se trouve son système de projection optique avancé, qui utilise des lentilles à haute résolution et des techniques d'éclairage avancées pour obtenir une imagerie précise des photomasques sur des plaquettes de silicium. Ce système permet d'assurer la précision et la fidélité des motifs transférés sur les plaquettes, ce qui est essentiel pour la performance et la fonctionnalité des dispositifs semi-conducteurs obtenus. Une des caractéristiques clés de FPA 8000 iW est sa haute résolution et ses grandes capacités de champ. Avec une résolution pouvant atteindre 130 nm et une taille de champ de 26 mm x 33 mm, cet étage peut accueillir les motifs complexes et denses requis pour les dernières technologies de semi-conducteurs. Le stepper présente également une lentille de projection à ouverture numérique élevée, qui permet la projection de caractéristiques fines avec une grande fidélité sur les plaquettes. La précision est un aspect critique de la fabrication de semi-conducteurs, et CANON FPA 8000 iW excelle à cet égard avec ses capacités avancées d'alignement et de contrôle de superposition. Le stepper est équipé de capteurs d'alignement avancés et d'algorithmes qui assurent l'alignement précis du photomasque et de la plaquette, même à l'échelle du nanomètre. Ce niveau de précision est essentiel pour atteindre les tolérances de recouvrement serrées requises pour les dispositifs semi-conducteurs multicouches. En plus du contrôle d'alignement et de superposition, FPA 8000 iW offre également des fonctions de contrôle d'éclairage avancées qui permettent d'optimiser le processus d'exposition pour différents types de motifs et de matériaux. L'étape peut ajuster l'intensité, la polarisation et l'angle d'illumination pour obtenir des performances d'imagerie optimales et la fidélité des motifs, même pour les motifs et les matériaux difficiles. CANON FPA 8000 iW est conçu pour des environnements de fabrication à haut volume, et à ce titre, il offre des capacités de débit élevé pour répondre aux exigences des fabriques modernes de semi-conducteurs. L'étage dispose d'un système de mouvement rapide, de capacités de manutention avancées des plaquettes et de fonctions de contrôle automatisé des processus qui permettent un fonctionnement efficace et fiable dans un environnement de production. Dans l'ensemble, FPA 8000 iW est un pas de plaquette polyvalent et avancé qui est bien adapté aux exigences exigeantes de la fabrication moderne de semi-conducteurs. Avec sa haute résolution, son alignement de précision et son contrôle de superposition, ses capacités d'éclairage avancées et ses performances de débit élevées, CANON FPA 8000 iW est un outil précieux pour fabriquer des dispositifs semi-conducteurs de pointe qui alimentent le paysage technologique moderne.
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