Occasion ELECTROMASK / TRE 10X #9041056 à vendre en France

ELECTROMASK/TRE 10X est un pas de tranche conçu pour produire des images numériques haute résolution pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Ce type d'équipement de lithographie fonctionne en utilisant une source lumineuse pour projeter une image sur une plaquette chargée de photorésist. La source lumineuse est typiquement composée d'une diode laser ou électroluminescente (LED). Le masque qui contient l'information d'image est placé dans un support et aligné avec l'étage de plaquette. Lorsque l'image est projetée sur la plaquette, elle est exposée à la résine photosensible. La résine photosensible est ensuite développée et l'image est transférée sur la plaquette. TRE 10X est basé sur une conception avancée avec une résolution de mouvement de 0,28 μ m (micromètres) pour les axes X et Y. L'étage de plaquette est entraíné par des moteurs linéaires et il a une capacité de charge maximale de 250 mm. Le système est conçu pour fonctionner à une fréquence maximale de 120kHz, permettant un traitement rapide des photomasques, tout en assurant une grande précision des motifs imprimés. Cette unité offre une excellente répétabilité et précision dans le transfert d'images vers la plaquette. ELECTROMASK 10X est équipé d'une machine d'alignement optique innovante (OAS) pour un alignement précis du masque ou réticule avec la plaquette. Cet outil utilise un capteur optique qui capture les images de la plaquette et du masque puis les reconstruit dans un ordinateur. Ce capteur est également conçu pour détecter tout raclage ou rayure sur le masque ou la plaquette avant exposition afin de minimiser les risques dans le processus de lithographie. En outre, 10X est également conçu avec différents modes d'impression tels que l'exposition unique, les expositions de chevauchement, et l'exposition à l'ombre. En ayant un large éventail de motifs d'exposition, ce pas de plaquette est en mesure de fournir aux utilisateurs la capacité de personnaliser leurs modèles afin de répondre à différentes exigences spécifiques. L'actif offre également une tête d'exposition multi-zones, conçue pour accueillir de grandes tailles de puces et un champ de vision étendu. ELECTROMASK/TRE 10X est également équipé d'une interface utilisateur intuitive. L'affichage du moniteur est intégré à diverses fonctions de contrôle, y compris la correction de motifs, la vérification de l'existence d'images, la mesure et la surveillance à nouveau, la saisie de données de grossissement, l'analyse d'images entre autres fonctions. Ce modèle permet également aux utilisateurs de choisir les tailles de plaquettes appropriées, les types de lits, les motifs de masque et les paramètres d'exposition en fonction du processus de lithographie spécifique qui doit être fait. Ce pas de plaquette convient bien aux personnes qui développent des microprocesseurs, des circuits intégrés et d'autres dispositifs semi-conducteurs. Sa haute résolution et sa précision en font le choix idéal pour fabriquer des dispositifs semi-conducteurs haut de gamme. En outre, son interface utilisateur efficace et intuitive permet aux utilisateurs de compléter leurs modèles avec un minimum d'effort.