Occasion GCA 6300B #9260038 à vendre en France

GCA 6300B wafer stepper est un outil de métrologie frontale utilisé dans la production de dispositifs semi-conducteurs. C'est un appareil automatisé qui est utilisé pour inspecter et mesurer les caractéristiques des micro-dispositifs 2D/3D et des structures à couches minces. Il est capable de fournir des mesures précises et répétables des caractéristiques de surface, telles que les étapes, la topographie et les rapports d'aspect, et supporte également un ensemble d'applications de micro-usinage. 6300B pas de tranche est équipé d'un contrôleur de performances, d'un processeur de signal numérique (DSP), d'un convertisseur numérique-analogique (DAC) et d'un convertisseur analogique-numérique (ADC). Le contrôleur fournit une analyse à grande vitesse et peut être utilisé pour contrôler l'étape en temps réel. Le DSP est utilisé pour mesurer les données des plaquettes, tandis que le DAC et le ADC convertissent les signaux pour analyse. GCA 6300B dispose également d'un équipement d'imagerie haute résolution, composé d'un microscope optique, d'une caméra ahigh-résolution et d'un scanner laser pour l'imagerie 3D. Le système d'imagerie a un champ de vision qui va de 30x à 300x avec une taille minimale de 0,3 μ m. Le stepper est également capable de mesurer des couches d'ultrathines de quelques dix nanomètres d'épaisseur à plusieurs centaines de nanomètres d'épaisseur. 6300B pas de plaquette a une unité de contrôle thermique interne qui permet la stabilité de la température sur l'ensemble du processus, assurant les niveaux les plus élevés de répétabilité du produit. Le stepper est livré avec un chargeur de plaquettes intégré, permettant le chargement et le déchargement de plaquettes jusqu'à 150 mm de diamètre. Il dispose également d'un mandrin à vide intégré et est équipé d'un outil de suivi des plaquettes pour identifier automatiquement chaque plaquette. GCA 6300B wafer stepper fournit un soutien pour divers outils et techniques de processus, y compris le broyage ionique, la gravure ionique réactive (RIE), la gravure humide, le polissage mécanique chimique (CMP), le dépôt diélectrique et le dépôt et le soulèvement. Le stepper offre un environnement de production à haut débit et fonctionne sur les systèmes d'exploitation Windows, MAC OS ou Linux. En résumé, 6300B stepper wafer est idéal pour des analyses de surface et de couches minces de haute précision et est capable de traiter des applications complexes avec un degré élevé de précision et de répétabilité. Il est conçu pour une production à haut volume et offre une gamme de caractéristiques pour un processus optimisé.