Occasion GCA 6800 #182892 à vendre en France

GCA 6800
Fabricant
GCA
Modèle
6800
ID: 182892
G-line Stepper Manual load of reticle Paddle wafer loader 6" x 6" X/Y stage motions Stage controlled motions with data input of 0.1μ in metric mode Stage precision of +/- 0.15μ Stage orthogonality ( software correctable) of +/- 0.5 arc sec Die rotation of +/- 0.2μ over 11mm Lens reduction of +/- 0.2μ over 11 mm Trapezoidal error of +/- 0.2μ over 11mm System is fitted with a Tropel 2035 5X g-line (436) lens with a .35NA and a 20mm dia. field. Lens spec. for this lens is 1.0 microns on ultra-flat wafers, but can be pushed lower Mercury light source will have a Maximus 1000 power supply and illuminator corrected for 436 nm (g-line) Auto focus in Z axis All electronic cards will be upgraded to latest available revisions Reticle loading will be manual type and will use a 5x5 inch reticle Wafer Handling will be done using a paddle system with paddles for 100 mm dia. wafers and pieces Wafer alignment (global) will be upgraded to a CCD camera Global objective spacing will be set for 76.2 mm separation Global Alignment system Registration of +/- 0.35μm The system uses a DEC PDP-11 computer An environmental water cooled chamber to be supplied with the uni Chamber power will be set for 208 volts, 60 Hz, 3 phase 30 amps, and the Electronic rack is 110volts, 60Hz, 30 amps.
GCA 6800 est un pas de plaquette capable de produire des images de microlithographie de haute qualité. Il s'agit d'un outil avancé pour produire des dispositifs de circuits intégrés semi-conducteurs, fournissant une imagerie à grande échelle avec de petites tailles de fonctionnalités. 6800 est basé sur les mêmes principes que les autres scanners pas à pas, mais sa conception intègre de nombreuses améliorations. GCA 6800 abrite quatre émetteurs laser indépendants avec trois miroirs électriques qui contrôlent leur découpage de faisceau pour des performances matures. Son système d'auto-focus est conçu pour assurer une imagerie précise et des cycles de balayage rapides. Le stepper est capable de produire des largeurs fines de 100 nm et inférieures, avec une taille maximale du motif de 400x400 mm. L'étage de plaquette est capable de se déplacer selon deux directions, avec 8 systèmes isolés d'entraînement et de commande de mouvement. Le stepper est également équipé de deux caméras plein champ qui permettent le suivi et l'imagerie grâce à son « optique adaptative de rétroaction ». Ce stepper intègre également une variété de caractéristiques de sécurité qui offrent une grande fiabilité et une protection optimale contre les mauvais traitements. Ces caractéristiques comprennent, entre autres, un verrouillage aux rayons X qui empêche l'accès au rayonnement laser et un système de verrouillage laser précis qui évite un fonctionnement non autorisé. En outre, 6800 est équipé d'un logiciel dédié pour simplifier les instructions de fonctionnement, permettant à l'utilisateur de définir des paramètres et de recevoir des rapports d'achèvement de processus. GCA 6800 est un outil puissant pour la production de puces qui offre haute résolution, imagerie précise et balayage rapide. Ce pas de plaquette est idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et est robuste et hautement fiable pour un fonctionnement sûr et cohérent.
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