Occasion GCA ALS I2235 #9247980 à vendre en France
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ID: 9247980
Stepper
Lens: TROPEL 2235
i-Line (365 nm): 0.35 NA
Field size: 22 mm
Automatic Wafer Handler (AWH): Cycle 25, 3"-8"
Automatic level wafers
RMS10: (10) Reticles, 5"
Maxi 2000: i-Line light source idles: 1000 W
AFS 100: Automatic Focusing System
MicroDFAS:
Measures local alignment system
Corrects alignment prior to stepping
SmartSet: Used to process and store data to match single / multiple steppers
Insitu probe:
Probe mounted stage and lens reduction
Rotation & focus with alignment baseline
IQ Probe:
Lamp position and light source
Accurate measure and correct dose
Programmable Platen Control (PPC):
Automatically adjust reticle load position
Integrated Alignment System (IAS):
Performs digital alignment of global target
Environmental chamber 8860 Stepper
With temperature & cleanliness
Options:
System resolution: 0.7 µm line / space
Depth of focus: 1.5 µm
Illumination uniformity: ±2.5 %
Illumination intensity: >300 mW / cm²
Open frame: No repeaters
Reduction: ±0.1 µm
Rotation: ≤0.05 µm
Telecintricity: ≤1.5 ppm / µm
Stepping repeatability: ≤0.15 µm
Global alignment: ±0.3 µm
Local alignment: ±0.2 µm
RMS reliability: 100 Cycles
Reticle blade accuracy: ±0.25 mm
AWH Reliability: 100 Wafers
AWH Accuracy: ±0.003”
Leveling repeatability: ±5 ppm from nominal.
GCA ALS I2235 est un pas de plaque de microlithographie utilisé pour la fabrication de semi-conducteurs et à des fins scientifiques connexes. Il est fabriqué par GCA Corporation et offre une production de haute précision, à haut débit et à haut volume. ALS I2235 comprend un mécanisme à cinq axes qui permet un alignement complet du champ tout en tenant compte des différentes tailles, formes et niveaux de complexité des puces. Cela permet des changements rapides d'alignement et l'adaptabilité de la configuration du produit. Il est également équipé d'un alignement automatique pour réduire les temps de traitement manuel pour un alignement précis du niveau des composants. Le composant central de GCA ALS I2235, l'outil d'exposition GSX750, fournit une lampe à arc Xénon 2500W pour des températures d'exposition supérieures et un système de contrôle optique de précision exclusif pour une précision inégalée. Le système de contrôle optique fournit non seulement une imagerie cristalline, mais il fournit également un processus d'alignement de superposition sans faille pour la photolithographie multi-niveaux. ALS I2235 est construit sur un châssis solide pour minimiser les vibrations tout en fournissant une large gamme de fonctionnalités de chargement de puce et d'alignement intra-lot pour maintenir la précision et l'évolutivité de lot à lot. Il offre également une large gamme de fonctionnalités de productivité haut de gamme, telles que l'alignement au niveau des plaquettes et des motifs, la détection en temps réel des foyers et l'alignement en plein champ. GCA ALS I2235 dispose d'un flux de travail très efficace, de la plaquette à l'alignement des plaquettes et des fonctionnalités d'automatisation avancées, telles que les capacités de géométrie des puces programmables et les multiples options de détection de bord. Ces fonctionnalités permettent un contrôle plus fin du processus de microlithographie avec une précision, une répétabilité et un flux de travail manuel minimisé. En outre, ALS I2235 utilise un écran tactile et une interface utilisateur graphique intuitive pour une opération conviviale. En tout, GCA ALS I2235 est un pas de plaquette idéal pour le contrôle de processus dans la production avancée de faisceau électronique et de photolithographie et est bien adapté pour une production haute précision, rapide et de haut volume. Ses différentes fonctionnalités, y compris l'automatisation et l'optique ultra haute résolution, fournissent une plate-forme pour la fabrication spécialisée et contrôlée de semi-conducteurs.
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