Occasion GCA ALS #293639853 à vendre en France
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ID: 293639853
I-Line wafer stepper
Illumination uniformity: <= 2.5%
Maximum stage travel: 200 mm
System resolution: 0.65 μm L/S
Depth of focus: >= 0.98 μm
Reduction: +/- 0.10 µm
Rotation: <= 0.05 µm
Telecentricity: +/- 0.5 ppm
Global registration: +/- 0.30 µm T.I.R
Local registration: +/- 0.15 µm T.I.R
Open frame: No repeaters
Orthogonality: +/- 1.0 ppm
Stage precision: +/- 0.15 µm
Wafer levelling repeatability: +/- 10 ppm
Reticle aligner accuracy: <= 0.1 µm
Aperture blade repeatability: +/- 0.25 mm
Aperture blade skew: +/- 0.25 mm
RMS Realiability: 30 Cycles
AWH Precision: +/- 3.0 mils
AWH Reliability: 50 wafers
Focus repeatability: <= 0.30 µm T.I.R
Reduction repeatability: <= 6.0 ppm T.I.R
Optic:
Lens specification: 2145-I Tropel
Focal length: 86
Resolution: 0.65 µm
Image field: 24.1 mm
Wavelength: 365 mm
E.P Diameter: 49 mm
E.P. Location: 473 mm
Reduction: 1:5
Depth of focus: n+/- 0.5 µm.
GCA ALS est un pas de plaquette conçu par GCA Corporation pour les applications avancées de lithographie. Le stepper dispose d'un étage de plaquette piloté par ordinateur, qui se déplace dans les directions X, Y et Z avec une répétabilité de 0,1 micron. Il a une base ultra-haute rigidité, qui permet un alignement de précision et une précision lithographique maximale. Ce stepper est un équipement avancé et efficace, permettant une microlithographie rapide et précise, pour la fabrication de structures et de dispositifs nanométriques. Le système d'objectif avancé permet une large gamme de caractéristiques, telles qu'une exposition au champ complet de 0,6 micron pour résister. Le stepper dispose également d'une unité d'exposition UV basse température/haute précision avec une vitesse maximale de ligne de 30 mm/sec. L'ensemble de la machine comprend une source lumineuse, objectif, obturateur, outil de mesure, actif de traitement d'image et contrôle d'exposition. Tous ces éléments peuvent être combinés pour atteindre différents objectifs tels que la stabilité maximale de l'exposition, la résolution et la productivité. Le wafer stepper dispose également de capacités avancées de contrôle de processus et de logiciels. Il comprend un modèle intégré de gestion des processus qui peut contrôler les paramètres d'exposition tels que le temps d'exposition, la puissance laser et le contrôle des mailles. La fonction de contrôle des mailles permet d'améliorer le contrôle des processus en détectant et en prédisant de petites erreurs de traitement sur une grande surface. Cela peut aider à réduire ou même éliminer les défauts du processus lithographique. En plus de l'étape de wafer, ALS dispose également d'algorithmes de processus intégrés pour l'alignement, l'exposition et le développement. Cela garantit une répétabilité maximale pour les processus lithographiques critiques. Il peut également être intégré avec des systèmes d'inspection et de stockage pour le traitement et le stockage des données. En bref, GCA ALS est un pas de plaquette très avancé conçu pour être rentable et permettant une grande précision et des processus lithographiques à haut débit. C'est un équipement puissant qui offre une grande flexibilité et précision pour la fabrication de nanostructures.
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