Occasion GCA ALS #35132 à vendre en France

GCA ALS (Application Light Source) est un pas de tranche utilisé pour la photolithographie. Il fournit une imagerie optique de haute précision et un alignement de motifs pour la production de plaquettes semi-conductrices et d'autres matériaux connexes. ALS est équipé d'un système LED 8 canaux avec jusqu'à 6000nm d'éclairage des photomasques d'origine et jusqu'à 10000nm de résolution d'imagerie. GCA ALS utilise un système de transport optique avancé qui assure un alignement précis de la lumière de la photomasque à la surface de la plaquette. Ceci est fait pour s'assurer que les résultats d'imagerie sont exacts et exempts d'erreurs. L'ALS est également équipée d'une source d'énergie laser spéciale pour l'ablation des couches de masquage non métalliques et non oxydes. Dans l'ensemble, GCA ALS est capable d'une variété de procédés de fabrication liés à la production de matériaux semi-conducteurs. Avec une machine ALS, des fonctionnalités avancées telles que l'imagerie haute résolution et l'alignement avancé des masques sont réalisables. La machine est également équipée d'un système de manutention multicouche des plaquettes, donnant à l'utilisateur une gamme complète d'options d'élimination des poussières et des défauts. Pour améliorer le débit et la précision, GCA ALS est équipé d'un véritable mécanisme de balayage micro-pas qui permet des actions précisément optimisées dans un seul champ d'exposition. De plus, ALS est capable de détecter et de corriger en temps réel les erreurs de position et les couches focalisées grâce à sa technologie de marquage laser embarquée. GCA ALS soutient également l'introduction de recettes de processus pour toutes les phases de fabrication de circuits intégrés (IC), permettant aux utilisateurs de développer des processus optimisés pour un large éventail d'applications. La machine est capable du débit et de la précision les plus élevés disponibles avec les dernières techniques d'imagerie optique. Dans l'ensemble, l'ALS est un équipement sophistiqué qui offre une imagerie et un balayage de précision pour la production de matériaux semi-conducteurs. Les technologies intégrées de transport optique et de source laser garantissent des résultats sans erreur et la gamme de fonctionnalités disponibles le rendent idéal pour un large éventail d'applications.