Occasion GCA XLS #111828 à vendre en France

GCA XLS
Fabricant
GCA
Modèle
XLS
ID: 111828
stepper, I-line with a wide field 2955i lens 4x reduction NA: .55 lens field size: 29mm.
GCA XLS wafer stepper est un outil hautement automatisé utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour les processus de fabrication de wafer. Il s'agit d'un stepper DUV couramment utilisé pour divers procédés de lithographie, tels que la lithographie pour la formation de circuits optiques et électroniques sur circuits intégrés et composants MEMS. XLS Wafer Stepper est un outil d'exposition à la projection multifaisceaux avec une taille d'image en projection allant jusqu'à 6x6 pouces. Il dispose d'une conception optique avancée et de logiciels propriétaires qui lui permettent d'atteindre un haut degré de débit et de précision. L'outil d'exposition multi-faisceaux fournit un processus d'imagerie optique efficace et de haute qualité avec un meilleur contrôle de la lumière. GCA XLS Wafer Stepper peut gérer une variété de cadres de masques (jusqu'à 8 « x8 ») et de plaquettes de toutes tailles, allant de 3 « - 8 ». Le stepper dispose d'un équipement avancé sans contact avec une précision de 1,5 um et une unité d'exposition capable de vitesses d'exposition allant jusqu'à 200Kms (20000 secondes). Il fournit également un système d'alignement de masque unique avec une précision de 4nm. Le moteur puissant lui permet d'atteindre une résolution de 4nm pour les axes X et Y, et de 8nm pour l'axe thêta. En outre, XLS Wafer Stepper dispose d'une unité de nettoyage d'air intégrée avec une machine à air continu et un outil de filtration en deux étapes. Le stepper dispose également d'un avantage stroboscopique et d'un stroboscope amélioré pour pouvoir fonctionner avec des superpositions d'image spéciales, telles que la lumière polarisée et les fonctions topographiques. Le modèle automatisé d'alignement des niveaux permet au marchepied de mesurer avec précision l'inclinaison de la plaquette et d'assurer une exposition de la plus haute qualité. GCA XLS Wafer Stepper peut traiter les couches de masque composé et binaire. Il peut également traiter des équipements d'alignement de plaquettes en utilisant une table de recherche dédiée avec une capacité d'enregistrement de haute précision intégrée et un éditeur de niveau pixel qui permet une édition de haute précision des données d'alignement et des motifs de masque. Dans l'ensemble, XLS Wafer Stepper est une technologie de pointe qui fournit une solution puissante et précise pour la fabrication de produits semi-conducteurs. Sa technologie de pointe et ses logiciels propriétaires lui permettent de fournir un haut degré de débit et de précision, ce qui en fait un outil très efficace pour la production de semi-conducteurs.
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