Occasion NIKON FX-601F #9241806 à vendre en France

NIKON FX-601F est une machine pas à pas conçue et développée par NIKON Corporation. Il est principalement utilisé dans les systèmes de lithographie pour le développement et la fabrication de procédés semi-conducteurs. La machine est capable de collecter une large gamme de motifs pas à pas et est capable de traiter des tailles de plaquettes jusqu'à 300 mm de diamètre. Il convient à une variété de zones de fabrication de photomasques et de procédés. NIKON FX 601F wafer stepper est équipé d'un équipement de traitement d'image numérique qui traite une image d'entrée fournie au système. L'unité applique des procédés de lithographie tels que la compression, la culture, le masque et la coupe, pour une réplication exacte du motif sur la plaquette. Le motif d'entrée est détecté par un capteur photoélectrique à trois canaux qui est ensuite converti en données binaires de motif. Les données sont soumises à l'amplification, au lissage, au filtrage et vont finalement à l'impression sur la plaquette. FX-601F wafer stepper offre une impression précise et rapide avec ses codeurs linéaires améliorés et ses moteurs de servomoteurs de diffusion. La machine est capable de produire divers motifs dont des motifs ligne/espace, des motifs électroniques impulsionnels, des motifs de recouvrement et des motifs de trous de contact. Il dispose d'une large surface d'usinage de 211 x 211 mm avec une résolution d'adresse de 0,2 μ m. La précision et l'uniformité des motifs imprimés dépendent de la précision de la surface de la plaquette et de la vitesse du pas. FX 601F wafer stepper est équipé d'une machine de protection de film pour protéger les motifs masqués. Cet outil détecte la rupture du film due à la force extérieure, et arrête l'impression pour éviter d'endommager le motif. La machine est également équipée d'un atout de mise au point automatique à haute sensibilité pour garantir la qualité des motifs imprimés. La machine dispose d'une base de données de recette intégrée qui stocke tous les programmes pour le traitement des plaquettes et la fabrication de photomasques. NIKON FX-601F wafer stepper est conçu pour un fonctionnement et un entretien faciles. Il dispose d'une station d'amarrage sophistiquée qui fournit des opérations simplifiées de chargement et de déchargement des plaquettes. Le panneau d'interface utilisateur ergonomique avec menu d'opération graphique permet à l'utilisateur de configurer facilement les paramètres de la machine pour un fonctionnement efficace. NIKON FX 601F wafer stepper est capable de traiter différentes formes de motifs avec une grande précision. C'est une machine idéale pour la fabrication de photomasques et le traitement des semi-conducteurs car elle offre un entretien facile et un coût de production efficace. Avec l'aide de cette machine, la fabrication de photomasques à haut rendement peut être réalisée.