Occasion NIKON FX-601F #9412239 à vendre en France

NIKON FX-601F wafer stepper est un outil d'imagerie avancé et très précis utilisé pour les processus de fabrication. Sa conception est optimisée pour une lithographie de haute précision et une production à haut rendement de transistors en couches minces, de composants optoélectroniques en couches minces et d'IC. NIKON FX 601F est capable de produire des images de petite à grande surface avec une résolution pouvant atteindre 1,2 micron. Le champ de vision physique de l'optique d'imagerie est 128mm carré, tandis que la surface du champ d'imagerie est 200mm carré. L'équipement de sensation est un appareil photo de scanner de la ligne de la haute définition 4CCD qui est conduit par un ordinateur de contrôle de système. L'optique est conçue pour fournir une grande profondeur de champ et peut être utilisée avec différents substrats et avec une variété de résistances et de matériaux. L'étage est capable de fonctionner à une vitesse allant jusqu'à 100 plaquettes par heure, ce qui le rend adapté à la fabrication à haut débit. L'unité dispose d'une variété de caractéristiques pour assurer une imagerie de haute précision, y compris l'alignement automatique de la caméra, la mise au point automatique et le réglage automatique de l'orientation de la plaquette. Le stepper est compatible avec les techniques de traitement atmosphériques et non atmosphériques populaires, et il est capable de produire des images cohérentes sur des substrats avec des topographies complexes. Le stepper est capable de contrôler le temps d'exposition, la taille et la position des réticules, et les intervalles d'exposition. Il dispose d'un moniteur haute définition et d'une interface graphique conviviale pour faciliter la programmation et le fonctionnement de la machine. L'outil est conçu avec des caractéristiques de sécurité telles qu'un rideau de lumière de sécurité intégré, et un verrouillage pour prévenir les expositions involontaires. FX-601F est un actif efficace avec un excellent rapport prix-performance, ce qui le rend idéal pour ceux qui cherchent à augmenter leur capacité de production tout en maintenant les normes les plus élevées possible de précision et de précision. Il s'agit d'un outil inestimable pour des applications avancées de lithographie, permettant la production rapide de transistors en couches minces de haute qualité, de composants optoélectroniques en couches minces et d'IC.