Occasion NIKON FX 701 / FX 901 #293661855 à vendre en France

Les paliers de plaquettes NIKON FX 701 et FX 901 sont des systèmes avancés de lithographie optique conçus pour modeler avec précision les caractéristiques des sous-microns et des nanomètres sur les plaquettes semi-conductrices. Les systèmes offrent des performances optiques supérieures et sont équipés d'une technologie avancée de surveillance des processus. Les systèmes NIKON FX 701 et FX 901 utilisent deux étapes distinctes d'inspection et de fabrication (ou « processus »). Tout d'abord, le système de projection optique utilise un objectif pas à pas très détaillé pour visualiser le modèle de marché sur la plaquette. L'ensemble de lentilles présente plusieurs caractéristiques distinctives, dont la stabilité extrême à haute température, qui est extrêmement critique dans les applications de lithographie. La deuxième étape est un procédé de fabrication qui utilise l'éclairage laser optique pour tracer avec précision les caractéristiques submicroniques de la plaquette en n'exposant que des régions désignées. Les systèmes FX 701 et FX 901 offrent une précision exceptionnellement élevée et une qualité d'imagerie supérieure, grâce à une portée de balayage de 6 pouces et un déplacement sur scène plus long. Cette résolution d'imagerie supérieure permet à NIKON wafer stepper de créer des modèles très précis pour la fabrication avancée de dispositifs nano-échelle. En plus de créer des modèles submicroniques très détaillés, NIKON FX 701 et FX 901 stepper fournit également une surveillance à la volée, permettant un ajustement sur place du processus. Cette surveillance avancée des processus fait de NIKON wafer stepper un outil fiable et efficace pour les applications de fabrication de semi-conducteurs exigeantes d'aujourd'hui. Les marches FX 701 et FX 901 comprennent également une fonction d'enregistrement brevetée qui augmente le débit et la précision des plaquettes. La fonction d'enregistrement automatise plusieurs tâches, dont le pannage, l'alignement multiple et la correction de motif, en scannant précisément la plaquette. Cela améliore encore la cohérence et la précision des processus. Dans l'ensemble, les paliers NIKON FX 701 et FX 901 sont des systèmes de lithographie avancés conçus pour la fabrication à l'échelle nanométrique de wafers semi-conducteurs de précision. Les systèmes FX 701 et FX 901 utilisent des lentilles pas à pas extrêmement précises, des techniques d'éclairage laser spécialisées et des systèmes avancés de surveillance des processus pour créer des modèles submicroniques très détaillés. En outre, les systèmes comprennent une fonction d'enregistrement breveté qui augmente le débit et la précision des plaquettes. La combinaison de ces caractéristiques fait de NIKON FX 701 et FX 901 wafer steppers un outil efficace et fiable pour les applications avancées de nanotechnologie d'aujourd'hui.