Occasion NIKON i11 #293606913 à vendre en France

NIKON i11 wafer stepper est un équipement de lithographie entièrement automatisé conçu pour les applications de traitement des wafers semi-conducteurs. Il offre le plus haut débit mais avec une résolution maximale et une fidélité à l'image. La machine est idéale pour les processus de production dans une large gamme de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le système NIKON I 11 est une solution de lithographie puissante et fiable pour les procédés avancés de fabrication de photomasques. I11 pas de plaquette est alimenté par une unité de déflexion avancée de 22mm à champ plat et 4K pilotée par ordinateur. Cette machine offre un traitement de photolithographie très précis avec une grande fenêtre de processus, ce qui garantit une grande répétabilité. Le stepper dispose également d'un outil optique haute résolution avec une grande ouverture numérique de 0,8 et un temps d'obturation de seulement 4,5 ms. Le stepper est équipé d'un outil de nettoyage entièrement automatisé, qui assure la propreté du réticule et minimise la génération de particules. Le modèle dispose également d'un contrôleur de vue à basse température, permettant aux utilisateurs de vérifier le motif microscopique dans le réticule. Cette fonctionnalité permet aux utilisateurs d'identifier toute erreur ou contamination avant le début du processus de masque, pour un rendement et une qualité maximums. L'étage I 11 wafer comprend trois étages, dont un étage wafer, un étage réticule et un étage chambre. L'étage de plaquette assure un contrôle précis de la zone de balayage de l'étage à l'aide de codeurs angulaires et d'servomoteurs. Il dispose également d'un équipement standard de mandrin chauffé et d'un chauffe-puddle résistant pour assurer une température et un contrôle de processus uniformes. L'étage réticulaire est équipé d'une glissière porte-air pour maintenir le masque et le maintenir parfaitement aligné sur le mandrin de plaquette pendant l'exposition. L'étage de chambre contient de nombreux composants dont un obturateur, un écran MER, une fenêtre optique, un diffuseur et un boîtier de lampe Hg. Cette étape assure un dosage précis, cohérent et répétable pendant le processus d'exposition des plaquettes. NIKON i11 wafer stepper dispose également d'une interface logicielle conviviale qui peut être facilement accessible depuis le panneau avant. Grâce à cette interface, les utilisateurs peuvent facilement configurer, contrôler et surveiller leur processus de production à partir d'un emplacement central. Le stepper peut également stocker des informations de recette telles que les paramètres d'exposition, afin de répéter un motif donné. Dans l'ensemble, NIKON I 11 wafer stepper est un choix idéal pour les applications de traitement de wafer à haut volume. Il offre un système optique haute résolution, une unité de nettoyage automatisée, de puissantes capacités de déviation et de balayage, une interface logicielle conviviale et un contrôle de processus entièrement automatique. Ces fonctionnalités permettent aux utilisateurs de produire rapidement et efficacement des dispositifs semi-conducteurs fiables et de haute qualité.