Occasion NIKON i12D #293748648 à vendre en France

NIKON i12D est un pas de plaquette haute performance utilisé en lithographie semi-conductrice. Il est conçu pour optimiser les performances optiques et assurer une fidélité de pente uniforme lors de l'exposition à la lithographie. I12D combine un étage fixe et un étage motorisé, ainsi qu'un équipement d'alignement de type colonne à 12 voies, pour assurer le plus haut degré de précision dans le positionnement des plaquettes. Un système unique de correction à deux niveaux compense le léger déplacement spatial des positions laser pour assurer un alignement précis. NIKON i12D possède une ouverture numérique élevée de 0,93, une petite aberration en spirale de moins de 5 nm et une profondeur de focalisation supérieure à 10 μ m. Cela garantit un haut niveau de précision pour les options de lithographie à ondulation pulsée et continue. I12D est également équipé d'une unité spéciale d'imagerie et de focalisation, dans laquelle l'objectif du foyer est incliné par un mécanisme de réglage de l'inclinaison pour fournir une image déformée. Ceci permet une imagerie de résolution micrométrique dans plusieurs directions tout en compensant toute variation de focalisation due au décalage angulaire des régions irradiées de la plaquette. NIKON i12D dispose également d'une machine d'irradiation tout-en-un compacte, permettant un contrôle précis de tous les paramètres d'irradiation. Cet outil est idéal aussi bien pour la lithographie de source à impulsions courtes que pour la lithographie de source à basse puissance à haute résolution. Le corps principal de i12D est construit à partir d'un alliage d'aluminium léger, mais robuste et ultra-résistant, pour une dissipation thermique maximale et la rigidité. Le corps présente également une architecture structurelle à trois niveaux, chaque composant étant isolé des vibrations pendant le fonctionnement. Dans l'ensemble, NIKON i12D est un pas de plaquette idéal pour des applications telles que le montage de circuits semi-conducteurs, la lithographie de timbres, le transfert de motifs et d'autres processus nécessitant une imagerie haute résolution et une précision d'alignement. Cet atout offre d'excellentes performances avec un minimum de bruit et de vibrations, garantissant un placement et une qualité d'image précis.